荫罩对准器
描述：
阴影掩模对准器旨在将掩模与基板精确对准。使用例如荫罩允许进行无光刻的薄膜沉积。一旦晶圆在掩模下面对准，两个基板将被夹在双卡盘中。然后，可以将夹有基板的双卡盘插入PVD室中进行蒸发。在沉积之后，将分离双卡盘并且可以取出基板。
除了阴影遮罩之外，idonus遮罩对齐器还具有广泛的应用程序，例如：阴影遮罩，粘接对齐和更多…
简单：真空夹紧能力和3轴手动对准功能使该面罩对准器非常易于使用。
灵活性：对准器已设计为可与多种晶圆尺寸和形状（标准与否）一起使用。Idonus可根据您的需要制造卡盘。
精确：与显微镜结合使用，可以实现最小±5 µm的对准公差。Idonus提出了他自己的双图像显微镜用于对准控制。用户可以同时聚焦和可视化2个对齐位置，以简化对齐过程。
细节：
Idonus Mask Aligner包含运行对齐过程所需的基本元素。
独立的设备，带有可移动的平台，用于卡盘装料和对准。
Z轴用于卡盘接触。
双卡盘用于晶圆和掩模处理。夹紧后，可直接用于进一步处理。
真空控制器可控制和调整对晶片和卡盘的夹持力。
