覃工电话：15821107090，作者Idonus相蚀刻系统红外显微镜

idonus MAS+DIM 掩膜对准系统掩膜与基板精准对准 · 真空夹持 · 双图像显微镜实时监控，对准精度达 ±5μm

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瑞士idonus sàrl-湿法处理晶圆夹具湿法晶片卡盘(WPWC )+用于均匀电沉积的晶片卡盘(WEDC )

瑞士idonus sàrl-芯片键合机 Chip-to-chip bonder (CCB )

用Idonus UV-LED光源替代汞气灯，升级你的掩模对准器

双显微镜荫罩掩模对准器模块化对准系统用于掩模板或其他基板的对准集成了抗振动夹持夹具 PVD工艺

瑞士idonus UV-LED曝光系统UV-EXP系列

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荫罩掩膜对准器 Shadow Mask Aligner ,精确和可重建性的对准荫罩掩膜和晶圆

瑞士Idonus MEMS制造设备湿法晶圆夹头用于在湿法蚀刻或电沉积过程中提供背面保护

瑞士Idonus MEMS制造设备创新技术 HF 蒸汽相蚀刻氢氟酸气相蚀刻机

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瑞士Idonus MEMS制造设备静电吸盘用于研发机构MEMS研发

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Idonus 掩模对准器 Mask Aligner

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