瑞士Idonus紫外线LED曝光系统

idonus提出了一种创新的紫外线照明系统，该系统基于大功率LED和高级微透镜阵列的使用。该产品可用于光致抗蚀剂曝光，适用于多种基材。我们完整的UV照明产品线可满足最大300毫米宽（11.8英寸）的掩模和晶圆的光刻需求。可以设计定制的解决方案以满足您的特定要求（例如，对掩模对准器进行改造，为您的未来产品提供OEM）。

LED的好处

直到最近，水银弧光灯还是唯一能够提供适合UV光刻曝光的高强度光的光源。由于LED技术的进步，UV-LED已成为危险且耗能的汞灯的极具吸引力的替代品。

除了生态和安全方面，与传统的汞灯相比，UV-LED的技术优势众多，并且对光刻具有重要意义。UV-LED的最主要优点是，它们能以一致的发射率运行，使用寿命非常长。结果，不需要日常校准和维护。此外，通过提高能源效率，LED减少了发热量，从而大大简化了系统冷却。

UV-LED技术的好处

• LED 使用寿命长，这意味着不再需要消耗品
• 无需每日校准，即时稳定的照明
• 即时开启，仅在曝光期间开启灯，无需机械快门
• 低功耗
• 有限的加热，这意味着非常低的空气冷却成本
• 没有维护费用

紫外线LED曝光系统

idonus已经推出了完整的UV-LED曝光产品线。我们的系统将市场上最有效的UV-LED与高级微透镜阵列集成在一起。它们完全组装并在内部进行控制。我们的设计采用全远心光学元件，可在整个曝光区域提供可重复且均匀的照明条件- 即高度均匀且稳定的强度，并且发散角很小。这种尖端的光学器件可确保整个基板完全均匀地曝光，从而生产出具有笔直侧壁的固化光致抗蚀剂，并可以对具有微米级临界尺寸的图案进行精确的微结构化。

图A：光学系统（简化）  •由于使用了微透镜阵列均化器，因此可以实现照明的高度均匀性。

性能表现

我们的UV-LED曝光系统有几种标准配置，可以根据多种变化进行定制（例如，单个或混合波长）。作为特殊机器的制造商，idonus还可以根据客户的要求开发完全定制的设备（例如，不同的曝光区域，改装的设备外壳）。表“标准UV-LED曝光系统”中给出了我们产品的主要特性。在校准过程中进行的典型测量如图B所示。在可用的曝光区域中，辐照度不均匀度±（max-min）/（max + min）低于±3％。图A所示的最大准直角α是我们系统表征的另一个重要参数。图C中显示的数据是从对我们的一种模型进行的测量中提取的典型结果。为了评估α，测得的辐照度是准直角的函数：α对应于FWHM（半高全宽）。该阈值通常用于考虑有效地促进光刻胶照射的光能。

表：标准的UV-LED曝光系统  •针对不同曝光区域进行了优化的我们标准产品的典型规格。

* 请注意，对于所有型号，都可以设计其他WD来满足您的特定需求。
** 需要定义，因为它取决于用户应用程序。

图B：辐照度不均匀  •测量显示不均匀度低于±3％。典型值是从我们的型号UV-EXP100S（方形照明面积100×100mm²）中提取的。

图C：角光谱 •紫外线被封闭在最大范围内。准直角（FWHM处的强度阈值，对应于95％的光能）。从我们的UV-EXP150S提取的典型值（最大准直角α为±1.8°）。

型号UV-EXP300S的详细视图。防反射涂层为前镜片赋予了这种独特的色彩

使用UV-EXP300S型可获得300×300mm²的高度均匀曝光面积。