Skip to content
  • ABOUT US
  • 产品应用
  • 产品目录
  • 免责条款
  • 全球各地的办事处
  • 关于我们
  • 您成功的合作伙伴
  • 隐私保护

分类: MEMS制造设备

瑞士Idonus,带双重图像显微镜的掩膜校准系统(MAS + DIM) ),双成像显微镜掩膜对准系统,DIM 双影像显微镜掩膜校准台,MAS+DIM 模块化掩膜对中系统,双显微镜荫罩掩膜对准器,双光路同步观测两组对准标记,±5μm 高精度掩膜‑晶圆平面对准,DIM 双相机屏幕可视化对位,无需反复切换视场,DIM 显微镜可独立单机使用,MEMS 微纳对准,荫罩掩膜 PVD 蒸镀,MEMS 器件,光电子样品精密对位,集成 DIM 双重图像显微镜

瑞士Idonus,用于光刻的UV-LED曝光系统,UV-EXP系列,紫外 LED 光刻曝光系统,UV‑LED 曝光机,Idonus 晶圆 UV‑LED 曝光设备,无汞 UV‑LED 光刻光源系统,掩模对准器 UV‑LED 改造光源,MEMS 光刻胶 UV 曝光设备,全远心光学 UV‑LED 曝光,曝光均匀性 ±3%,掩模对准器汞灯改造替换,闭环能量控制 UV 曝光系统,MEMS 微加工 UV 曝光,大尺寸晶圆 UV‑LED 曝光设备

用Idonus UV-LED光源替代汞气灯,升级你的掩模对准器

双显微镜荫罩掩模对准器 模块化对准系统 用于掩模板或其他基板的对准 集成了抗振动夹持夹具 PVD工艺

瑞士idonus UV-LED曝光系统UV-EXP系列

IDONUS显微镜

代理瑞士Idonus IR-M 红外晶圆检查显微镜

UV-EXP系列光刻曝光系统 紫外光刻曝光系统 高功率 UV-LED 源 远程控制选项

瑞士idonus UV-LED曝光系统UV-EXP系列

双显微镜荫罩掩模对准器 模块化对准系统 用于掩模板或其他基板的对准 集成了抗振动夹持夹具 PVD工艺

Idonus HF气相蚀刻机静电卡盘

瑞士idonus UV-LED曝光系统UV-EXP系列

用Idonus UV-LED光源替代汞气灯,升级你的掩模对准器

Idonus芯片键合机CCB

Idonus晶圆键合检测设备WBI红外光晶片键合检测设备

Idonus湿法晶片卡盘WPWC、均匀电沉积晶片卡盘WEDC

Idonus HF气相蚀刻机静电卡盘

Idonus HF气相蚀刻机VPE系列VPE100、VPE150、VPE200

瑞士Idonus MEMS制造设备 红外显微镜

瑞士Idonus MEMS制造设备 晶圆键合检查装置 应用于红外图像

荫罩掩膜对准器 Shadow Mask Aligner ,精确和可重建性的对准荫罩掩膜和晶圆

瑞士Idonus MEMS制造设备 湿法晶圆夹头 用于在湿法蚀刻或电沉积过程中提供背面保护

瑞士Idonus MEMS制造设备 创新技术 HF 蒸汽相蚀刻 氢氟酸气相蚀刻机

瑞士Idonus MEMS制造设备 创新技术 HF 蒸汽相蚀刻 氢氟酸气相蚀刻机

瑞士Idonus MEMS制造设备 湿法晶圆夹头 用于在湿法蚀刻或电沉积过程中提供背面保护

荫罩掩膜对准器 Shadow Mask Aligner ,精确和可重建性的对准荫罩掩膜和晶圆

瑞士Idonus MEMS制造设备 晶圆键合检查装置 应用于红外图像

瑞士Idonus MEMS制造设备 红外显微镜

瑞士idonus sàrl-Electrostatic chucks (E-chucks ) 静电吸盘、电子卡盘 

瑞士Idonus MEMS制造设备 红外显微镜

瑞士Idonus MEMS制造设备 晶圆键合检查装置 应用于红外图像

荫罩掩膜对准器 Shadow Mask Aligner ,精确和可重建性的对准荫罩掩膜和晶圆

瑞士Idonus MEMS制造设备 湿法晶圆夹头 用于在湿法蚀刻或电沉积过程中提供背面保护

瑞士Idonus MEMS制造设备 创新技术 HF 蒸汽相蚀刻 氢氟酸气相蚀刻机

瑞士Idonus MEMS制造设备 静电吸盘 用于研发机构MEMS研发

瑞士Idonus MEMS制造设备 静电吸盘 用于研发机构MEMS研发

瑞士Idonus MEMS制造设备 创新技术 HF 蒸汽相蚀刻 氢氟酸气相蚀刻机

瑞士Idonus MEMS制造设备 湿法晶圆夹头 用于在湿法蚀刻或电沉积过程中提供背面保护

瑞士Idonus MEMS制造设备 静电吸盘 用于研发机构MEMS研发

瑞士Idonus MEMS制造设备 多芯片真空卡盘 用于各种湿法蚀刻和芯片清洁工艺

瑞士Idonus MEMS制造设备 用于光刻的idonus UV-LED曝光系统 用于光致抗蚀剂曝光 适用于MEMS 微流体 光子学 半导体和光伏应用中的各种基材和光致抗蚀剂

瑞士Idonus MEMS制造设备 芯片对芯片键合机

瑞士Idonus MEMS制造设备 紫外线LED曝光系统

Idonus 掩模对准器 Mask Aligner

Idonus掩模对准器 Mask Aligner

瑞士idonus UV-LED晶圆光刻曝光系统

关于idonus

瑞士idonus是一家专注于微型工程行业专业设备设计和制造的微技术公司。核心竞争力有:MEMS设备(MicroElectroMechanical Systems)、离子注入 机器视觉和光学解决方案、光伏设备、工程服务和原型或小批量生产

热门产品

DIM Double Image Microscope (DIM ) E-chucks HF Vapor Phase Etcher HF气相蚀刻机 idonus idonus sàrl Infrared Microscope IR-M MAS MAS + DIM Mask Aligner Mask Alignment System (MAS ) MEMS MEMS制造设备 MEMS器件 MEMS造设备 Mercury-vapor lamp Shadow Mask Aligner UV-EXP系列 UV-LED UV-LED exposure系统 UV-LED曝光系统 VPE VPE系列 光刻胶曝光 具有双图像显微镜的掩模对准系统 微机电系统制造设备 微电子机械系统制造设备 掩模对准器 掩模对准系统 气相蚀刻机 汞气灯 湿法处理晶圆夹具 湿法晶片卡盘 瑞士IDONUS 瑞士idonus sàrl 紫外-LED曝光系统 紫外LED光刻曝光系统 紫外照明系统 红外显微镜 红外硅片检测显微镜 荫罩对准器 荫罩掩膜对准器 静电吸盘

最新文章

  • 瑞士Idonus,带双重图像显微镜的掩膜校准系统(MAS + DIM) ),双成像显微镜掩膜对准系统,DIM 双影像显微镜掩膜校准台,MAS+DIM 模块化掩膜对中系统,双显微镜荫罩掩膜对准器,双光路同步观测两组对准标记,±5μm 高精度掩膜‑晶圆平面对准,DIM 双相机屏幕可视化对位,无需反复切换视场,DIM 显微镜可独立单机使用,MEMS 微纳对准,荫罩掩膜 PVD 蒸镀,MEMS 器件,光电子样品精密对位,集成 DIM 双重图像显微镜
  • 瑞士Idonus,用于光刻的UV-LED曝光系统,UV-EXP系列,紫外 LED 光刻曝光系统,UV‑LED 曝光机,Idonus 晶圆 UV‑LED 曝光设备,无汞 UV‑LED 光刻光源系统,掩模对准器 UV‑LED 改造光源,MEMS 光刻胶 UV 曝光设备,全远心光学 UV‑LED 曝光,曝光均匀性 ±3%,掩模对准器汞灯改造替换,闭环能量控制 UV 曝光系统,MEMS 微加工 UV 曝光,大尺寸晶圆 UV‑LED 曝光设备
  • 瑞士Idonus,HF蒸相蚀刻器(VPE系列),氢氟酸气相刻蚀机,VPE 气相牺牲层释放设备,准干法 HF 气相蚀刻仪,MEMS 无粘附释放刻蚀机,瑞士 Idonus 气相蚀刻器,MEMS 无粘附释放,SiO₂牺牲层气相刻蚀,SOI 晶圆免划片释放,单面二氧化硅刻蚀,微流控,光学 MEMS,高校微纳实验室,气相 HF 刻蚀 SiO₂,X 射线光学器件制备,芯片裸片刻蚀,4/6/8 英寸晶圆,静电卡盘 E‑chuck,单面二氧化硅刻蚀
  • idonus MAS+DIM 掩膜对准系统 掩膜与基板精准对准 · 真空夹持 · 双图像显微镜实时监控,对准精度达 ±5μm
  • 瑞士idonus sàrl UV-LED 曝光系统 高功率 UV-LED + 全远心光学系统,覆盖最大 600×600mm 曝光面积,不均匀度低至 3%

© All Right Reserved 2018 皕赫国际贸易(上海)有限公司

  • 电子邮件
  • 拨打电话