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瑞士Idonus,HF蒸相蚀刻器（VPE系列）,氢氟酸气相刻蚀机,VPE 气相牺牲层释放设备,准干法 HF 气相蚀刻仪,MEMS 无粘附释放刻蚀机,瑞士 Idonus 气相蚀刻器,MEMS 无粘附释放,SiO₂牺牲层气相刻蚀,SOI 晶圆免划片释放,单面二氧化硅刻蚀,微流控,光学 MEMS,高校微纳实验室,气相 HF 刻蚀 SiO₂,X 射线光学器件制备,芯片裸片刻蚀,4/6/8 英寸晶圆,静电卡盘 E‑chuck,单面二氧化硅刻蚀
