描述
多室 UHV 系统专用于通过电子光谱技术对固体和粉末样品进行表面分析，尤其是：
该系统包括：
- 带有分析仪（包括仪器和软件）的光谱室，允许使用 XPS、UPS、AES、EPS、TPD 技术。该分析仪能够以高分辨率 (<20mm) 进行 XPS 测量，在选定表面上进行精确和深度分析 ≤ 1x1mm，可以进行化学成像和角分辨测量
- 带有仪器和软件的可变温度 STM/AFM 室，专用于原子分辨率测量
- 专门用于制备样品的制备室，配备有 AES/LEED 光谱仪和带有残余气体分析仪的热解吸光谱仪（包括仪器和软件）
该系统还配备了：
- 样品装载、转移和储存
- 用于样品制备和清洁的装置
- 专用于光谱和色谱气体分析的 UHV 流通式高压反应器
- 气体计量
- 压力温度测控系统
- 真空控制系统
- 样品温度测控系统
测量温度范围为 100-2300°K。该系统允许独立和同时使用电子光谱技术。灵活的设计允许轻松修改以满足未来的科学需求。
