描述
专用于薄层制备和表面固体样品（晶体和电子结构）的复杂分析的多室 UHV 系统，采用扫描探针显微镜（SPM、SPS）等研究方法。MBE 室配备 7 个源，RHEED 和离子源。分析室配备了 XPS 分析仪，可使用 X 射线、离子和电子源。
规格
该系统专用于：
• 通过外延生长生成纳米结构、薄层、磁性层状结构和异质结构（铁磁/半导体）
• 使用磁性、XPS 和SPM 方法对制造的异质结构特性进行高级研究。通过 STM、AFM 和磁力显微镜 (MFM) 表征磁性薄层和磁性固体材料
• 测量薄层和磁性异质结构的表面电子态密度
• 通过 X 射线光电子能谱 (XPS) 分析表面电子状态
