瑞士Idonus,带双重图像显微镜的掩膜校准系统（MAS + DIM） ),双成像显微镜掩膜对准系统,DIM 双影像显微镜掩膜校准台,MAS+DIM 模块化掩膜对中系统,双显微镜荫罩掩膜对准器,双光路同步观测两组对准标记,±5μm 高精度掩膜‑晶圆平面对准,DIM 双相机屏幕可视化对位,无需反复切换视场,DIM 显微镜可独立单机使用,MEMS 微纳对准,荫罩掩膜 PVD 蒸镀,MEMS 器件,光电子样品精密对位,集成 DIM 双重图像显微镜

带双重图像显微镜的掩膜校准系统（MAS + DIM） )

THE MASK ALIGNER 旨在准确对齐掩膜与基材。 例如，使用阴影掩膜可以进行无光刻薄膜沉积。 晶圆在掩膜下对齐后，两个基板将被夹紧成双夹头。 夹紧的双夹头和基底可以插入PVD腔进行蒸发。 沉积后，双层夹头将被分离，基底可以取出。

除了阴影遮罩外，Idonus 遮罩对准器还有广泛的应用，例如：

• 阴影遮罩
• 紫外光遮蔽
• 纳米印记
• 键合对齐

简单
性：真空夹持能力和三轴手动对准使该口罩对准器使用非常简单。

灵活性
该对准器设计可配合多种晶圆尺寸和形状使用，无论标准还是非标准。 Idonus根据你的需求生产夹头。

精度
：结合显微镜，可实现至少5微米±的校准公差。 Idonus提出了自己的双重图像显微镜用于校准控制。用户可以专注并进行可视化 同时使用两个对齐位置以简化对齐过程。

掩膜对准系统（MAS） )

Idonus MAS 口罩矫正器包含了您进行对准所需的基本元素。

双重图像显微镜（DIM） )

使用idonus双重成像显微镜（DIM）实现了±5微米的精确对准。 对齐由两台摄像头在电脑上监控。 这些设备设计用于与我们的口罩对准器（即MAS+DIM系统）结合使用，但也可以作为独立设备使用。