瑞士Idonus,用于光刻的UV-LED曝光系统,UV-EXP系列,紫外 LED 光刻曝光系统,UV‑LED 曝光机,Idonus 晶圆 UV‑LED 曝光设备,无汞 UV‑LED 光刻光源系统,掩模对准器 UV‑LED 改造光源,MEMS 光刻胶 UV 曝光设备,全远心光学 UV‑LED 曝光,曝光均匀性 ±3%,掩模对准器汞灯改造替换,闭环能量控制 UV 曝光系统,MEMS 微加工 UV 曝光,大尺寸晶圆 UV‑LED 曝光设备
用于光刻的UV-LED曝光系统（UV-EXP系列）
在UV-EXP系列中，Idonus提供了创新的紫外线照明 基于高功率LED的系统 以及高级均质光学。该产品线应用于光刻胶曝光 （紫外LED光微光修复与固化）适用于各种基材和光刻胶，用于微机机系统（MEMS）、微流控技术， 光子学、半导体和光伏应用。我们的标准紫外线照明线 产品满足宽达300毫米（11.8英寸）的掩膜和晶圆的光刻需求。
为什么选择LED技术？
直到最近，汞弧灯是唯一能够提供高强度光源 适合紫外光刻曝光。得益于LED技术的进步，紫外LED已成为 这是对危险且耗能的汞灯非常有吸引力的替代方案。
除了生态和安全方面，UV-LED的技术优势与 传统的汞灯数量众多，且对光刻具有重要意义。最重要的优势 紫外LED的特点是它们能以稳定的发射方式工作，且寿命非常长。因此，每天都有 无需校准和维护。此外，LED因其更节能，具有 减少加热，大大简化了系统冷却。
值得注意的是，365 nm、405 nm和435 nm（峰值波长）的LED可以组合使用以模拟 汞弧灯的UV-A光谱（汞元素的i线、h线和g线特征峰）
UV-LED曝光的益处
- 照明稳定，无需每日校准
- 即时开启，光只在曝光时开启，不需要机械快门
- 寿命长，意味着不需要更多消耗品
- 窄谱：没有不必要加热基底，且工艺更可重复
- 低功耗
- 无维护费用
Idonus 紫外LED曝光系统
Idonus推出了完整的UV-LED曝光产品线。 我们的系统集成了市场上最有效的紫外LED和高端微透镜阵列。 它们完全由内部组装和控制。我们的设计采用全远心光学系统，能够提供 在整个曝光区域内实现可重复且均匀的照明条件——即高度均匀且稳定 强度，发散角非常小。这种先进的光学系统确保了整个曝光的完美均匀 基底，生产具有直侧壁的固化光刻胶，并实现图案的精确微结构化 微米级临界尺寸。
