Idonus UV-EXP系列提供了一种创新的紫外线照明系统，该系统基于高功率led和高级均化光学器件的使用。该产品线应用于光刻胶曝光(UV-LED光刻和固化)，适用于MEMS、微流体、光子学、半导体和光伏应用中使用的各种衬底和光刻胶。我们的标准紫外线照明产品系列解决了300毫米(11.8英寸)宽的掩模和晶片的光刻需求。系列提供了一种创新的紫外线照明系统，该系统基于高功率led和高级均化光学器件的使用。该产品线应用于光刻胶曝光(UV-LED光刻和固化)，适用于MEMS、微流体、光子学、半导体和光伏应用中使用的各种衬底和光刻胶。我们的标准紫外线照明产品系列解决了300毫米(11.8英寸)宽的掩模和晶片的光刻需求。
为什么选择LED技术？
直到最近，汞弧灯是唯一能够提供适用于UV光刻曝光的高强度光的光源。由于LED技术的进步，UV-LED已经成为危险且耗能的汞灯的非常有吸引力的替代品。
除了生态和安全方面，与传统的汞灯相比，UV-led的技术优势对于光刻来说是众多且重要的。紫外发光二极管的一个最大优点是，它们在很长的寿命内以一致的发射工作。因此，不需要日常校准和维护。此外，由于能效更高，led减少了发热，从而大大简化了系统冷却。
值得注意的是，发射365纳米、405纳米和435纳米(峰值波长)的发光二极管可以组合起来模拟汞弧灯的UV-A光谱(i-line, h线和g线汞元素的特征峰)，可以看出在这个图表中
UV-LED曝光的好处
- 稳定的照明，无需每日校准
- 瞬间接通，光只在曝光时打开，不需要机械快门
- 长寿命，意味着不再需要耗材
- 专一性的:不会对衬底产生不必要的加热，工艺可重复程度更高
- 低功耗
- 没有维护成本
idonus UV-LED曝光系统
idonus推出了完整的UV-LED曝光产品系列。我们的系统集成了市场上最有效的UV-led和高级微透镜阵列。它们完全在内部组装和控制。我们的设计采用了全远心光学系统，可在整个曝光区域提供可重复且均匀的照明条件即具有非常小的发散角的高度均匀和稳定的强度。这种尖端光学器件确保整个基板完全均匀曝光，产生具有直侧壁的固化光刻胶，并实现具有微米临界尺寸的图案的精确微结构。
