Sens4陶瓷隔膜真空变送器VDM-2 陶瓷隔膜传感器 采用陶瓷隔膜传感器,实现与气体类型无关的测量

VDM-2 陶瓷隔膜真空变送器

  • 0.1 至 1333 毫巴 测量范围

    采用陶瓷隔膜传感器,实现与气体类型无关的测量

  • 耐腐蚀性

    兼容多种酸类与溶剂介质

  • 多种控制选项

    支持模拟与数字接口,配备过程控制用设定点继电器

  • 即插即用替代方案

    引脚与输出信号兼容其他厂商的不锈钢压电变送器

VDM-2 陶瓷隔膜真空变送器采用坚固耐腐蚀的氧化铝陶瓷隔膜,隔膜会随施加的压力产生比例形变,以此实现高精度真空压力测量。其核心的压阻式传感元件,可在各类真空应用场景中提供精准稳定的测量结果。
不同于常规依赖充油式传感元件的不锈钢隔膜压电真空变送器,VDM-2 采用洁净干式陶瓷压电隔膜传感器,彻底消除了敏感真空系统中油污染的风险。
产品设计兼顾通用性,测量结果不受气体种类或成分影响,是半导体加工、分析仪器、工业真空系统等场景的理想选择。

替代电容薄膜真空计

电容薄膜真空计常用于先进工艺的测量与控制,VDM-2 变送器是传统 1000 托 / 毫巴满量程电容薄膜真空计(CDG)的高性价比紧凑型替代方案。

专为恶劣真空环境设计

VDM-2 真空变送器专为存在腐蚀性气体、强化学介质或严苛工况的高要求真空场景设计。其氧化铝陶瓷隔膜对多种溶剂、酸类及反应性化合物具备优异的耐腐蚀性,可在复杂环境中长期稳定工作。
  • 可选派瑞林(Parylene)涂层防护:派瑞林是一种高耐腐蚀疏水聚合物屏障,广泛应用于医疗场景(如过氧化氢等离子灭菌、冻干工艺),对耐用性和防污染性有极高要求的场景尤为适用。
  • 可选防护挡板:可防止真空工艺中的颗粒物污染沉积在传感器隔膜上,保障测量精度并延长传感器寿命。
  • 耐用化设计:氧化铝传感元件可承受突发排气及最高 2 巴绝压(29 psi)的过压工况,适用于工业、制药、半导体等高压应力真空系统。

灵活的模拟电压输出,支持压力读取与控制

VDM-2 真空变送器配备高分辨率模拟电压输出,可直接连接外部显示器、数据采集系统、PLC 或过程控制设备,实现实时真空压力监测。
  • 兼容多种系统,提供多种预配置模拟输出曲线,可无缝替代其他厂商的真空计,减少安装调试时间与集成成本。
  • 自定义场景支持:模拟输出可由用户配置任意线性标定,最大化适配特定系统需求或控制策略。

带 RS-232/RS-485 数字接口,保障真空数据可靠传输

VDM-2 真空变送器集成 RS-232 和 RS-485 数字接口,可在长距离电缆传输中实现无噪声、无信号衰减的真空测量数据传输,不受电气干扰影响。
  • 支持实时压力监测、诊断、预测性维护、校准、运行状态监控、设定点配置及模拟输出标定等高级功能,助力现代真空系统实现更智能的控制与集成。
  • 数字输出独立于模拟输出量程(如模拟输出为 100 托满量程时),仍可提供最高 1333 毫巴(1000 托)的全量程真空压力读数,为监测与控制提供最大灵活性。

可靠的固态继电器,支持高级真空系统控制

VDM-2 真空变送器配备 3 路独立固态开关继电器,可直接控制真空泵、阀门及安全联锁电路等外部设备。这些集成输出可实现无缝自动化与实时系统响应,满足高要求的真空控制场景。
  • 相比传统机电继电器,固态继电器开关速度更快、可靠性更高、无电弧操作,可消除开关过程中的电磁干扰(EMI),适用于精密与噪声敏感环境。
  • 耐用性认证:继电器通过 UL、CSA 认证,符合 EN/IEC 60950-1 标准,保障关键真空工艺与高循环工业应用的长期性能与安全性。

兼容其他厂商真空计 —— 即插即用替代变送器

Sens4 的即插即用替代真空变送器,可直接配套其他厂商的电源与显示单元使用,无需修改通信软件,是真空系统升级、替换与 OEM 集成的理想选择,对设备互操作性有严格要求的场景尤为适用。

定制化真空变送器设置 —— 为你的应用量身定制

VDM-2 真空变送器可在出厂时根据特定应用需求完成配置,开箱即可实现最佳性能与无缝集成。定制配置选项包括:
  • 测量范围
  • 真空压力单位(如毫巴、托、帕)
  • 设定点配置
  • 输出信号标定
这些预配置变送器是 OEM 厂商与系统集成商的理想选择,支持即插即用安装,大幅减少调试时间。每台定制 VDM-2 设备均分配唯一零件编号,简化后续采购流程,保障真空系统的性能一致性。

应用与市场

VDM-2 陶瓷隔膜真空变送器专为严苛工业与科学环境下的高精度真空测量与控制设计,具备长期稳定性与可靠性,支持多种真空应用场景:
  • 半导体制造
  • 实验室研究与仪器设备
  • 工业真空系统
  • 泄漏检测与质量控制
  • 分析与过程控制设备
典型应用场景:
  1. 真空前级管路:测量与监测前级真空压力,保护涡轮分子泵。
  2. 半导体工艺:半导体制造中 CVD、PVD 及前级真空应用的测量,采用耐腐蚀陶瓷隔膜传感器。
  3. CVD 工艺:用于人造金刚石合成的 CVD 工艺中,实现真空控制。
  4. 蒸馏工艺:模拟太空恶劣环境时,测量真空气体压力。
  5. PVD 涂层:带防护挡板的 VDM-2 可用于物理气相沉积(PVD)涂层应用,延长设备使用寿命。
  6. 炉体设备:真空热处理过程中测量与控制真空度,工业应用可选配挡板与涂层防护。


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