PREVAC XPS UPS 光电子能谱仪 XPS UPS Photoelectron Spectrometer [project 454]
UHV ESCA 系统专门用于在控制良好的条件下通过不同方法研究宽温度和压力范围内固态表面的化学和物理特性。
规格
该系统设计用于在控制良好的条件下通过 XPS/UPS 方法调查和修改固体表面。分析室中的基础压力< 5*10 -11 mbar。
- 多功能分析室集成了标准ESCA、AES、ISS和UPS等不同的测量方法。高精度的 5 轴机械手确保样品的良好定位，它配备有用于 LN 2 的低温恒温器和用于在很宽的温度范围内冷却和加热样品的加热器。腔室由μ金属制成，配备有半球形分析仪和分析设备，如离子源、电子源、泛光枪、单色X射线源、无单色X射线源、紫外线源，并为许多其他准备。可根据客户要求对设备进行改造。
- 两级制备室，配备LEED、TDS、离子源、电子束蒸发器、机械表面清洁器，以及许多可用于未来制备或蒸发装置的端口。样品上的温度取决于样品架，可以在 -180°C 到 2000°C 之间变化。
- 分配室，用于将样品架转移到连接在其圆周上的特定室。
- 切割器室用于切割安装在合适的样品架上的样品。
- 高压室用于加热至 650°C 并将样品在受控气体气氛中在压力下冷却至 2 MPa
- 负载锁定室为粉尘样品泵送准备，带有内部烘烤系统。
- 用于 6 个样品架的样品停放室。
