PREVAC 高压光电发射光谱 UHV 系统 High Pressure Photoemission Spectroscopy UHV System [project 487]
它配备了 HP 分析仪，但重点是高度灵活的样品环境，部分是新开发的、高度通用的气室，部分是用完全不同的室设置替换分析室的可能性。因此，该站将允许进行气固和气液相互作用的前沿研究。该系统配备了自动控制功能，允许许多不同的操作员安全有效地操作许多不同类型的样品。
该系统的核心是基于高压分析仪和 PREVAC 设计的气室概念的分析模块。
HP 池 3 轴机械手设计允许通过 IR 激光照射加热样品（样品温度可在池内达到 800 °C 以上）、电阻加热（高达 700 °C）和 LN 2冷却（双 Z 轴：一个气池的正确放置，其次是高精度的样品定位）。为了便于从气室分离，操纵器安装在导轨上。
▪环境压力 50 mbar – 10 -10 mbar
▪ 高度灵活的样品环境
▪ 创新的多功能气室
▪ 轻松拆卸 HP 电池操作器
▪ 轻松拆卸分析仪模块
▪易于操作
▪ 用于气-固和气-液相互作用
