高强度双阳极铝/镁源，针对XPS和高压XPS实验进行了优化。阳极、灯丝和源极外壳的设计保证了最大的 X 射线强度和阳极面之间的极低串扰。
特殊配置的鼻锥允许最大限度地接近样品。标准光源中使用的双阳极允许分离发射两种不同特征的X辐射发射线：Mg（1253 eV），Al（1487 eV） – 可根据要求提供其他涂层材料。
技术数据：
| 安装法兰 | DN 40CF（不可旋转） |
| 阳极 | 铝/镁（可根据要求提供其他材料） |
| 权力 | 铝 600 瓦 / 镁 400 瓦 |
| 能量范围 | 7 – 15 keV |
| 阴极电流（I导管) | 高达 2.5 A |
| 发射电流范围（Ie) | 0 – 50 毫安 |
| 相声 | < 0.35 % |
| 样品磁场 | 低于 0.5 μT |
| 样品温度升高 | < 5 °C |
| 阴极类型 | 钍钨 |
| 水冷 | 需要，压力 3.5 – 5 巴（最大 6 巴），流量≥ 2.5 升/分钟，最高温度 = 30 °C |
| 插入长度 | 285毫米;外径： 35 毫米 |
| FWHM | 取决于工作距离（例如，距离 30 mm 为 15 mm） |
| 典型工作距离 | 5 – 30 毫米（最佳 15 毫米） |
| 烘烤温度 | 最高 250 °C |
| 工作压力 | < 5 x 10-6毫巴 |
特征：
- 高强度双阳极铝/镁
- 特殊配置的鼻锥
- 极低的串扰
- 低磁场
- 密封外壳
- 非常高效的水冷内壳，以减少操作过程中对样品的热损伤
- 内置双重高压保护以及密封外壳
- 能够在毫巴范围内的高压实验中工作（可选）
- 能够在水流有限的完全控制下工作。
选项：
- HP 版本，高达 20 毫巴
- 倾斜 50 – 100 mm 的线性移位（适用于配备额外泵送端口的 HP X 射线源）
- 式 制冷机
