描述
定制的多室 UHV 系统，用于原子和电子表面结构分析、表面复杂外延金属或分子膜的研究和制备以及多层膜样品中界面的化学分析。
规格
围绕中央径向分布室设计的多室系统，带有连接的分析室和辅助室，可满足真正 UHV 条件（压力低于 10 -10毫巴）下的样品传输需求。分析室中的基础压力 < 5*10 -11 mbar。中央径向分配室通过重定向室连接到具有相同设计的第二分配室。第二个系统提供与商用高性能 XPS 系统的连接，以及通往第二个制备室、装载锁和样品储存室的通道。
- 集成多种表面分析方法的多技术分析室；X射线光电子能谱（XPS）、单色紫外光电子能谱（UPS）、离子散射能谱（ISS）和俄歇电子能谱（AES）。样品定位是通过一个稳定、高精度的 5 轴机械手和两个电动旋转轴实现的。样品接收站配备了 LN 2低温恒温器，允许温度在 -180°C 至 1000°C 的范围内变化。mu-metal 室配有半球分析仪、X 射线源、带单色器的紫外线源、电子源和泛光枪。灵活的设计允许根据未来的科学需求轻松修改。
- 5 轴机械手和专用软件允许以优于 0.1 度的角分辨率和可重复性测量 X 射线光电子衍射数据 (XPD)。
- 红外光谱室 (FT-IR) 与商用红外光谱仪，也可用作独立仪器。样品可以在测量过程中加热和冷却，腔室配备有气体计量和电子束蒸发器，用于原位样品制备。
- 三级制备室，配备 LEED、离子源、电子束蒸发器、Knudsen 池和可用于未来扩展的众多端口。
- 用于 6 个样品架的储存室。
- 装载锁定室配备可拆卸手套箱，用于简单的样品装载或在减少氧气和水气氛下的样品制备。
