描述
定制的多室 UHV 系统，专用于在宽温度和压力范围内研究固态表面的化学和物理特性。
规格
多室系统设计用于在很好控制的条件下通过不同方法研究和修改固体表面。带有附加分析室和辅助室的中央径向分配室满足这些要求并确保高质量的测量，因为样品在 UHV 压力 (<10 -10毫巴)下在室之间转移。分析室中的基础压力 < 5*10 -11 mbar。
- 多功能分析室集成了标准ESCA、ESCA、AES、ISS和UPS等不同的测量方法。高精度的 5 轴机械手确保样品的良好定位，并配备有用于 LN2 的低温恒温器和用于在很宽的温度范围内冷却和加热样品的加热器。温度范围取决于样品架，可以在 -180°C 到 2000°C 之间变化。腔室由mu金属制成，配备有半球形分析仪和分析设备作为离子源、电子源、泛光枪、X射线源、单色X射线源，并为许多其他准备。可根据客户要求对设备进行改造。
- 两级制备室，配备LEED、TDS、离子源、电子束蒸发器、机械表面清洁器和许多可用于未来制备或蒸发装置的端口。
- 分配室，用于将样品架转移到连接在其圆周上的特定室。
- 为粉尘样品泵送准备的负载锁定室，带有内部烘烤系统。
- 高压室用于加热至 650°C 并将样品在受控气体气氛中在压力下冷却至 2 MPa
- 用于 6 个样品架的样品停放室。
