描述
一种分析型 UHV 系统，专门用于研究宽温度和 UHV 条件下固态表面的化学和物理特性。
规格
在真正的 UHV 条件下，在腔室（分析和负载锁定）之间具有线性样品传输的分析系统。分析室中的基础压力范围为 10 -11毫巴。系统准备在未来扩展径向分布室，并有可能添加另一个处理室，如：制备室、反应器或沉积室。
- 集成不同表面分析方法的球形多技术分析室。样品定位是通过一个非常稳定、高精度的 5 轴机械手进行的，机械手有两个电动旋转轴，用于自动角度映射。样品接收站配备了 LN 2低温恒温器，允许温度在 -180°C 至 1000°C 范围内变化（取决于样品架型号）。该腔室由 mu-metal 制成，并配备了一个带有 2D 检测器的半球分析仪和一个带有基于电子回旋共振的离子源（ECR 离子源）的轻离子加速器系统。
- 结合涡轮分子泵、离子泵和钛升华泵的特高压真空系统。半球分析仪安装在方位角位置。
- 装载锁室。
