idonus UV-EXP系列曝光系统专为满足最严格的光质量需求而设计，采用高功率UV-LED光源、优质光均匀器和远心光学系统。它既可以作为独立的桌面设备使用，提供足够的工作空间以容纳您的基板，也可以集成到您的系统中。本文将帮助您选择最适合您需求的型号，并规划其在您的工作流程中的集成。
光学系统架构
光源单元（UV-EXP-LE）
UV-EXP 系统内部嵌入了我们的高性能 UV LED 光源单元（UV-EXP-LE）。通常，单颗 LED 产生的光波长为 365 nm、385 nm、395 nm、405 nm、435 nm 或这些波长的组合（在我们的标准配置中为 365/405/435 nm）。UV-EXP-LE 通过电子控制精确调节，并通过空气或水冷却。安装在 UV-EXP 背部的电源模块提供所需的工作电流。
LED 产生的原始光经过一套高级均匀化光学元件处理后，均匀化为一致的光线，然后进入曝光源外壳进一步处理。
机械基础（UV-MB）和 UV 防护罩（UV-SHIELD）
机械基础（UV-MB）支撑 UV-EXP 系统，UV 防护罩封闭了工作空间。它被设计为为您的基片和对准工具提供充足的工作空间。四周的 UV 防护罩过滤掉有害的 UV 光，保护您的眼睛和周围的材料，同时始终保持视觉控制。
曝光源（UV-EXP）
曝光源采用无反射外壳，封闭光源单元并支撑远心光学系统。准直光学元件将发散的（但已均匀化的）紫外线光线垂直对准您的基片。
该光源是为特定的曝光区域设计的。根据您的基片尺寸，您可以选择我们的标准尺寸（Ø150、□150、Ø200、□200 和 □300 毫米）。也可提供定制尺寸。
控制单元（UV-EXP-CU）和反馈传感器（UV-SENS-GaP）
曝光系统的操作由 UV-EXP-CU 控制单元控制。通过紫外线和温度传感器的反馈回路，UV-EXP-CU 控制功率、曝光时间、辐照度或剂量。系统提供了安全互锁功能。
也可以提供远程控制单元 UV-EXP-RCPU，以便与您的现有设备协议进行集成。
UV-EXP产品线
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| 型号 | UV-EXP150R-SYS | UV-EXP150S-SYS | UV-EXP200S-SYS 或 UV-EXP200R-SYS | UV-EXP300S-SYS |
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| 曝光区域 | Ø 150 mm | 150 × 150 mm² | 200 × 200 mm² 或 Ø 200 mm | 300 × 300 mm² |
| 波长 | 365 nm 和/或 385 nm / 395 nm / 405 nm / 435 nm（一个波长为标准）
所有型号可配置多波长峰值的 UV-LED（例如，1LE-3WL：365/405/435 nm 组合） |
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| 辐照度（@ 365 nm） | 40 mW/cm² | 40 mW/cm² | 25 mW/cm² | 12 mW/cm² |
| 辐照度（@ 385、395 和 405 nm） | 50 mW/cm² | 50 mW/cm² | 30 mW/cm² | 17 mW/cm² |
| 辐照度不均匀度 *1 | ±3% | ±3% | ±3% | ±3% |
| 准直角度 *2（±α，FWHM c） | ±1.8° | ±1.8° | ±1.4° | ±0.9° |
| 工作距离（WD） | 350 mm | 300 mm | 400 mm | 300 mm |
| 选项 | ☐ 可调准直角度 – UV-ACA：手动更换孔径以减少准直角度，辐照度会受到影响。该模块安装在光源上，UV-EXP 配有手动更换孔径的开口 ☐ 水冷 – UV-WA：适用于连续使用，提供高度稳定的输出 ☐ 光源升级为 2× 或 3× LED，具有不同波长 –（2LE 或 3LE）：提高使用的多功能性（UV-EXP 配有外部可操作的机械开关，用户可以选择使用的 LED） ☐ 样品夹具：用于软接触或真空接触的基片和掩模夹具（Chuck）： ☐ Ø 2’’ ☐ Ø 3’’ ☐ Ø 100 mm ☐ Ø 150 mm ☐ Ø 200 mm ☐ Ø 300 mm |
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*1 辐照度不均匀度表示为 ±C，其中 C 是 Michelson 对比度比率：C = (最大值 – 最小值) / (最大值 + 最小值)。
*2 为避免歧义，半角用 表示，全角用 2 表示。因此，准直角度为 2 或 ±，如数据表中所示。
c FWHM：半最大宽度 (Full Width at Half Maximum)。
高功率 UV-LED 源
我们的 UV-EXP 曝光系统集成了高功率发光二极管（LED）来生成紫外光。与传统系统中使用的汞（Hg）灯相比，LED 具有许多优势，正在推动整个行业的转型。下表中列出了 LED 技术的主要技术特点，而图 2 中展示了与 UV 光刻相关的 4 个波长的光谱分布。
365 nm 的 UV-LED 提供了最佳的多功能性，并且是我们推荐的大多数应用的选择。对于过程效率至关重要的参数，385 nm 是某些光刻胶的最佳选择。
2LE 或 3LE 选项允许在曝光单元上安装 ×2 或 ×3 个 LED，并可以在需要时在几秒钟内手动切换。
| 高功率 UV-LED | |
| 光谱 |
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| 寿命 | 寿命 >10,000 小时（实际曝光时间） |
| 稳定性 |
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| 环境影响 |
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光照质量
光刻工艺要求照射晶圆的光源具有 均匀性、准直性和远心性。
均匀性 确保整个光刻胶表面获得一致的曝光/固化水平，典型的照度不均匀性要求低于 ±5%。我们的 UV-EXP 产品保证 ±3% 的均匀性，优于大多数竞争对手。每台 UV-EXP 出厂前都会在 4000 多个点扫描照射区域，确保均匀性。
准直角（collimation angle）在 ±1° 至 ±2° 之间（具体取决于型号）。该角度足够小，可用于 精细结构曝光，同时适用于 厚光刻胶层。
UV-ACA（可调准直角） 选项提供一组可更换的固定光阑，可用于 进一步降低准直角，但会相应降低照度输出。
UV-EXP-CU 控制单元与反馈控制
UV-EXP-CU 控制单元（第二代型号，默认包含）可实现对曝光参数的全面控制：
- 曝光时长：0.1 至 600 秒
- 电流控制：调节 LED 供电电流，范围为额定电流的 10% 至 100%
- 辐照度控制：从最低 5 mW/cm² 至系统最大辐照度
- 剂量控制：总剂量（辐照度 × 时间）范围 10 至 9,000 mJ/cm²
- 光谱功率分布 (SPD) 调节：适用于多波长光源，支持全光谱分布控制
精准输出由磷化镓 (GaP) UV-SENS GAP 传感器（系统标配）确保，该传感器安装在 UV-EXP 机身上，并通过闭环反馈控制调节辐照度。
此外，光源引擎的温度实时测量与显示，冷却系统自动调节以维持安全工作温度。
- 标准冷却方式：空气冷却热管系统
- 水冷选项 (UV-WA)：推荐用于长时间工作，以确保更高的工艺稳定性
远程控制选项
- UV-EXP-RCU 远程控制单元（可选）适用于 OEM 集成商
- 通过ModBus TCP 协议实现主控系统直接控制
- 支持脉冲操作
如需 UV-EXP-RCU 的详细技术文档，请联系销售团队。
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