瑞士idonus 氢氟酸气相刻蚀机,UV-LED曝光系统
Idonus是一家专门从事微工程行业特种设备设计和制造的微技术公司。
Idonus的核心竞争力是：
The idonus 的核心产品是用于 MEMS 微制造的洁净室设备。
IDONUS把这些产品分为两类设备：
- 掩膜对准 (MAS, DIM ) 和 光刻 暴露 (UV-EXP ), 以及两者的结合 (PLX )
- MEMS系统微加工 (VPE, E-chuck, WPWC, CCB ) 和 检测 (IR-M, WBI )
掩膜对准机 和 光刻
IDONUS掩膜对准解决方案 (MAS )
- 掩膜对准器
- 双图像显微镜 (DIM )
- 带有DIM的掩膜对准器 (MAS + DIM )
IDONUS UV-LED曝光系统
(UV-EXP系列)
各种曝光系统，使用 UV-EXP 系列：
- UV-EXP150R：曝光面积Ø150毫米
- UV-EXP150S：150 × 150 毫米²曝光面积
- UV-EXP200R
- UV-EXP200S
- UV-EXP300S
入门级产品: UV-LAB100R
汞蒸汽灯 改造 和 定制 设计：
- UV-EXP600S：非常大的曝光面积 600 × 600 毫米² （意味着系统集成需要定制设计）
- 汞基掩膜对准器的改造
- 定制安装底座使用标准UV-EXP产品
- 其他尺寸的定制设计UV-EXP (例如，尺寸 < 150R)
IDONUS光刻曝光
(PLX系列)
PLX 是结合对准和紫外线曝光的完整系统。 PLX 系列将 MAS + DIM 与 UV-EXP 设备结合在一起。
- PLX150：配备 UV-EXP150R 或 UV-EXP150S
- PLX200：配备 UV-EXP200R 或 UV-EXP200S
IDONUS HF 气相刻蚀机 (VPE 系列)
VPE 系列：
- VPE100：适用于直径最大至100毫米的晶圆
- VPE150
- VPE200
其他变体和广泛的配件
静电夹 (E-夹)
静电夹持多个芯片或晶圆的部件
湿法晶圆夹具 (WPWC ) +
均匀电沉积晶圆夹具 (WEDC )
用于晶圆化学蚀刻或均匀电沉积的机械夹具
芯片到芯片 bonder (CCB )
用于芯片阳极键合的系统
IDONUS微机电系统检查
红外显微镜 (IR-M )
带有红外敏感相机的显微镜
晶圆键合检查 (WBI )
全晶圆（例如，融合键合后）的红外（IR）成像检查
