波兰 PREVAC 分子束外延设备 Mini MBE systems是一种简单且功能齐全的迷你MBE系统旨在外延生长薄层。即插即用紧凑型设计。
如果您需要高质量的沉积工艺，结合低运行操作成本的设计和小尺寸的设备，这就是答案。该单元是理想的，例如用于研发单元中新材料和技术的快速测试。
分子束外延独立系统适用于生长III/V、II/VI族元素以及其他异质结构等。
分子束外延设备 Mini MBE systems包含8个用于蒸发源的端口，衬底台用于10×10 mm的样品，具有加热和旋转选项。
沉积过程可以在较宽的温度范围内（从LN2到1400˚C）进行控制，并且可以通过PLC控制器进行完全的软件编程和控制。
分子束外延设备 Mini MBE systems配有超高压标准的连接法兰，用于连接当前和未来的设备，包括：
最多8个带法兰DN40CF（高温或低温、单丝或多丝）的渗出池，
具有温度范围（从LN2到1400˚C）的基板操纵器，
泵送系统（基于背压泵、TMP、离子泵和TSP），
带设备的真空计，
用于线性传送系统或运输箱的入口，
石英天平，带Z机械手的厚度监测器，
RHEED/TorrHEED带设备，
用于相邻层或掩模的电动或手动快门（跟随衬底），
额外的气体配料，例如用于反应沉积工艺，
视口–带百叶窗的观察窗，
残余气体分析仪，
诊断设备的加热视口。
最终设计和功能取决于系统配置。
泵送系统与小体积的工艺室相结合，可以在短时间内达到基本压力，其中基本压力保证在5×10-10毫巴以下。
该系统配备了先进、易于使用的电源和电子设备，用于控制和支持电源和整个研究设备。
波兰 PREVAC 分子束外延设备 Mini MBE systems主要特征：
插头和工作结构
经济的解决方案，专为空间有限的实验室设计
适用于生长III/V、II/VI族元素以及其他异质结构
多达8个蒸发源DN 40CF端口，带电源
具有高精度温度控制的4轴电动或手动机械手：电阻加热高达1000°C，EB加热高达1400°C，水或LN2冷却（可根据要求提供更简单的机械手）
为Flag型基板/样品支架准备
带LN2护罩的基本压力：<2×10-10毫巴
带可更换底部法兰的小型工艺室
泵送系统（基于背压泵、TMP、离子泵和TSP）
用于沉积速率测量和厚度监视器的石英天平，带Z机械手测量焦点中的速率
带设备的RHEED/TorrHEED
40CF端口上的附加独立百叶窗
装载用于单个样品支架的锁定室，或带有用于6或12个Flag型基板支架的旋转木马（作为存储）
从负载锁到处理室的可靠快速线性传输系统
带设备的真空计
视口-带快门的观察窗
烘烤前带有集成排气管线的冷却系统
烘烤系统
可调节刚性主框架，带大轮子，便于放置系统
19“带电子单元的机柜
