PREVAC 磁控溅射系统 Semi-industrial MS systems用于快速和可重复的薄层应用过程，并提供最大限度的自动化操作支持。
磁控溅射系统 Semi-industrial MS systems设计允许多种沉积技术的组合，其中包括：DC/RF磁控溅射、反应溅射和使用电子束的蒸发。带有集成计算机的电子柜配有大触摸屏和用户友好的软件，将使基材的涂覆过程变得平稳轻松。
为了方便用户，可以通过前门进入主腔室，因此很容易更换磁控管靶、基板或维修/清洁腔室内部。主腔室由不锈钢制成，基本压力范围<3*10-7毫巴。在标准中，它配备了两个3英寸磁控管源（直流、射频）和一个6插座电子束蒸发器。具有旋转功能的机械手能够操作样品支架，最大可达6英寸。
PREVAC 磁控溅射系统 Semi-industrial MS systems软件主要用于：
沉积系统的完全控制，
用于有效快门控制的自动、手动和可编程定时器，
图形系统状态表示，
过程创建者和控制器，
快速、实时的数据预览，
实时数据采集（与LIMS数据采集系统集成）。
该系统配备了先进、易于使用的电源和电子设备，用于控制和支持电源和整个研究设备。
PREVAC 磁控溅射系统 Semi-industrial MS systems主要特征：
半成品涂装用自动化高压装置
非常适合沉积金属和介电薄膜
工艺室标准尺寸：Å570 mm
电源配置：2 x 3〃磁控管和6插座电子束蒸发器（可提供其他配置）
基本压力范围<3×10-7毫巴
具有稳定、长寿命加热元件的双轴机械手，可实现高达300°C的高温
广泛的基板支架尺寸（从10×10毫米到6英寸，其他可根据要求）和形状
可提供磁控管源的向上溅射和向下溅射布置
在直流、射频和脉冲直流模式下运行
Ar气体质量流量控制自动加药
现场表征工具的可能性，例如等离子体发射监测器（PEM）、椭圆仪、反射仪、石英天平或高温计温度测量系统
由单一电源和开关网络提供的多个源，或由用于共沉积处理的多个电源提供
在直流、射频和脉冲直流模式下运行
可通过前门快速方便地装载基板
19英寸机柜，配有先进的电子单元和专用人机界面（HMI）设备，用于硬件轻松控制和监控过程
车轮上的刚性主框架使系统易于放置
