离子源：NGI3000

LK-Technologies强大，流行的离子源设计用于通过离子溅射清洁表面，光束能量高达3 keV，典型离子电流高达30μA。该喷枪采用了一种新颖的气体喷射系统，该系统允许在典型的1×10 ^-6托的腔室压力下进行溅射。

• 专利的气体注入系统避免了昂贵的差动泵送设备
• 低室压下的惰性气体溅射
• 宽离子束确保均匀溅射
• 与普通溅射清洁和ISS应用兼容
• 连续可调谐的电压从200 V到3 kV
• 带USB或以太网接口的数字控制电子设备