Skip to content
  • ABOUT US
  • 产品应用
  • 产品目录
  • 免责条款
  • 全球各地的办事处
  • 关于我们
  • 您成功的合作伙伴
  • 隐私保护

标签: 阴影掩模对准仪

双影像显微镜 单影像显微镜 阴影掩模对准仪 科勒照明 红外显微镜 DIM数字显微镜 SIM

关于idonus

瑞士idonus是一家专注于微型工程行业专业设备设计和制造的微技术公司。核心竞争力有:MEMS设备(MicroElectroMechanical Systems)、离子注入 机器视觉和光学解决方案、光伏设备、工程服务和原型或小批量生产

热门产品

DIM Double Image Microscope (DIM ) E-chucks HF Vapor Phase Etcher HF气相蚀刻机 idonus idonus sàrl Infrared Microscope IR-M MAS MAS + DIM Mask Aligner Mask Alignment System (MAS ) MEMS MEMS制造设备 MEMS器件 MEMS造设备 Mercury-vapor lamp Shadow Mask Aligner UV-EXP系列 UV-LED UV-LED exposure系统 UV-LED曝光系统 VPE VPE系列 光刻胶曝光 具有双图像显微镜的掩模对准系统 微机电系统制造设备 微电子机械系统制造设备 掩模对准器 掩模对准系统 气相蚀刻机 汞气灯 湿法处理晶圆夹具 湿法晶片卡盘 瑞士IDONUS 瑞士idonus sàrl 紫外-LED曝光系统 紫外LED光刻曝光系统 紫外照明系统 红外显微镜 红外硅片检测显微镜 荫罩对准器 荫罩掩膜对准器 静电吸盘

最新文章

  • 瑞士Idonus,带双重图像显微镜的掩膜校准系统(MAS + DIM) ),双成像显微镜掩膜对准系统,DIM 双影像显微镜掩膜校准台,MAS+DIM 模块化掩膜对中系统,双显微镜荫罩掩膜对准器,双光路同步观测两组对准标记,±5μm 高精度掩膜‑晶圆平面对准,DIM 双相机屏幕可视化对位,无需反复切换视场,DIM 显微镜可独立单机使用,MEMS 微纳对准,荫罩掩膜 PVD 蒸镀,MEMS 器件,光电子样品精密对位,集成 DIM 双重图像显微镜
  • 瑞士Idonus,用于光刻的UV-LED曝光系统,UV-EXP系列,紫外 LED 光刻曝光系统,UV‑LED 曝光机,Idonus 晶圆 UV‑LED 曝光设备,无汞 UV‑LED 光刻光源系统,掩模对准器 UV‑LED 改造光源,MEMS 光刻胶 UV 曝光设备,全远心光学 UV‑LED 曝光,曝光均匀性 ±3%,掩模对准器汞灯改造替换,闭环能量控制 UV 曝光系统,MEMS 微加工 UV 曝光,大尺寸晶圆 UV‑LED 曝光设备
  • 瑞士Idonus,HF蒸相蚀刻器(VPE系列),氢氟酸气相刻蚀机,VPE 气相牺牲层释放设备,准干法 HF 气相蚀刻仪,MEMS 无粘附释放刻蚀机,瑞士 Idonus 气相蚀刻器,MEMS 无粘附释放,SiO₂牺牲层气相刻蚀,SOI 晶圆免划片释放,单面二氧化硅刻蚀,微流控,光学 MEMS,高校微纳实验室,气相 HF 刻蚀 SiO₂,X 射线光学器件制备,芯片裸片刻蚀,4/6/8 英寸晶圆,静电卡盘 E‑chuck,单面二氧化硅刻蚀
  • idonus MAS+DIM 掩膜对准系统 掩膜与基板精准对准 · 真空夹持 · 双图像显微镜实时监控,对准精度达 ±5μm
  • 瑞士idonus sàrl UV-LED 曝光系统 高功率 UV-LED + 全远心光学系统,覆盖最大 600×600mm 曝光面积,不均匀度低至 3%

© All Right Reserved 2018 皕赫国际贸易(上海)有限公司

  • 电子邮件
  • 拨打电话