Skip to content

ABOUT US
产品应用
产品目录
免责条款
全球各地的办事处
关于我们
您成功的合作伙伴
隐私保护

标签：多芯片静电夹具

氢氟酸蒸汽相蚀刻机 VPE 气相蚀刻机多芯片静电夹具晶圆夹具安全网

关于idonus

瑞士idonus是一家专注于微型工程行业专业设备设计和制造的微技术公司。核心竞争力有：MEMS设备（MicroElectroMechanical Systems）、离子注入机器视觉和光学解决方案、光伏设备、工程服务和原型或小批量生产

热门产品

DIM Double Image Microscope (DIM ) E-chucks HF Vapor Phase Etcher HF气相蚀刻机 idonus idonus sàrl Infrared Microscope IR-M MAS MAS + DIM Mask Aligner Mask Alignment System (MAS ) MEMS MEMS制造设备 MEMS器件 MEMS造设备 Mercury-vapor lamp Shadow Mask Aligner UV-EXP系列 UV-LED UV-LED exposure系统 UV-LED曝光系统 VPE VPE系列光刻胶曝光具有双图像显微镜的掩模对准系统微机电系统制造设备微电子机械系统制造设备掩模对准器掩模对准系统气相蚀刻机汞气灯湿法处理晶圆夹具湿法晶片卡盘瑞士IDONUS 瑞士idonus sàrl 紫外-LED曝光系统紫外LED光刻曝光系统紫外照明系统红外显微镜红外硅片检测显微镜荫罩对准器荫罩掩膜对准器静电吸盘

最新文章

瑞士Idonus,带双重图像显微镜的掩膜校准系统（MAS + DIM） ),双成像显微镜掩膜对准系统,DIM 双影像显微镜掩膜校准台,MAS+DIM 模块化掩膜对中系统,双显微镜荫罩掩膜对准器,双光路同步观测两组对准标记,±5μm 高精度掩膜‑晶圆平面对准,DIM 双相机屏幕可视化对位,无需反复切换视场,DIM 显微镜可独立单机使用,MEMS 微纳对准,荫罩掩膜 PVD 蒸镀,MEMS 器件,光电子样品精密对位,集成 DIM 双重图像显微镜
瑞士Idonus,用于光刻的UV-LED曝光系统,UV-EXP系列,紫外 LED 光刻曝光系统,UV‑LED 曝光机,Idonus 晶圆 UV‑LED 曝光设备,无汞 UV‑LED 光刻光源系统,掩模对准器 UV‑LED 改造光源,MEMS 光刻胶 UV 曝光设备,全远心光学 UV‑LED 曝光,曝光均匀性 ±3%,掩模对准器汞灯改造替换,闭环能量控制 UV 曝光系统,MEMS 微加工 UV 曝光,大尺寸晶圆 UV‑LED 曝光设备
瑞士Idonus,HF蒸相蚀刻器（VPE系列）,氢氟酸气相刻蚀机,VPE 气相牺牲层释放设备,准干法 HF 气相蚀刻仪,MEMS 无粘附释放刻蚀机,瑞士 Idonus 气相蚀刻器,MEMS 无粘附释放,SiO₂牺牲层气相刻蚀,SOI 晶圆免划片释放,单面二氧化硅刻蚀,微流控,光学 MEMS,高校微纳实验室,气相 HF 刻蚀 SiO₂,X 射线光学器件制备,芯片裸片刻蚀,4/6/8 英寸晶圆,静电卡盘 E‑chuck,单面二氧化硅刻蚀
idonus MAS+DIM 掩膜对准系统掩膜与基板精准对准 · 真空夹持 · 双图像显微镜实时监控，对准精度达 ±5μm
瑞士idonus sàrl UV-LED 曝光系统高功率 UV-LED + 全远心光学系统，覆盖最大 600×600mm 曝光面积，不均匀度低至 3%

© All Right Reserved 2018 皕赫国际贸易(上海)有限公司

电子邮件
拨打电话