具有双图像显微镜的掩模对准系统

MAS + DIM

掩模对准器被设计用来精确对准掩模与基板。例如，使用遮光掩模可以实现无光刻的薄膜沉积。一旦晶圆在掩模下对准，两个基板将被夹在双夹具中。夹紧的双夹具与基板可以被插入物理气相沉积室进行蒸发。沉积完成后，双夹具将被分开，基板可以取出。

除了遮光掩模外，Idonus 掩模对准器还具有广泛的应用，例如：

– 遮光掩模
– 紫外光掩模
– 纳米压印
– 粘接对准

简易性

具备真空夹持能力和三轴手动对准功能，使得这款掩模对准器非常易于使用。

灵活性

该对准器设计用于多种晶片尺寸和形状，无论是标准还是非标准。idonus 根据您的需求定制夹具。

精准度

结合显微镜，可以实现最小 ± 5 微米的对准公差。idonus 提供自己的双影像显微镜用于对准控制。用户可以同时聚焦和观察两个对准位置，以简化对准过程。