WafIR™ ATR Wafer Checker ATR 附件

WafIR™ 是一种水平 ATR 附件,用于分析应用于双侧抛光晶圆一侧的单层和其他薄涂层。 它具有 45° 射合角度 Si 晶体,将光耦合到晶圆中。 WafIR 集成了带压力垫的压力施用器,旨在以最小的接触区域实现最佳接触,接触区域位于测量区域之外。 压力施用器包括一个滑动离合器,用于限制施加到样品的总力,并与扭矩扳手兼容,可重复性。 WafIR 完全封闭,可进行快速清除,并与大多数 FTIR 光谱仪兼容。

特征

无阻碍的水平采样表面可容纳直径从 52 x 10 mm 到 203 mm (8}) 的晶圆。
非接触式采样方法;与耦合晶体的接触位于测量区域之外。
由于多个反射,灵敏度高。
为 0.770 mm 厚的晶圆提供涂层表面的 33 个反射。
修复了 45° 的事件角度。
可更换的硅耦合晶体。
内置滑动离合器限制了施加到样品的总力。
独特的压力施用器,带垫片,与样品接触最小。
易于对齐和使用。
PermaPurge+可快速更换样品,而不会中断清除。
包括

带硅耦合晶体的 WafIR。
指定光谱仪的配接硬件。