Harrick 低温反应室 CHC-CHA-5，CHC-VUV-5, 工作温度范围-150°C to 600°C（真空下），非常适合在精确控制的温度和压力下研究多相催化、气-固相互作用、光化学反应和氧化机制方面的应用
美国Harrick Praying Mantis 原位红外漫反射附件, 红外原位池，红外原位附件，红外漫反射附件，红外漫反射系统，原位红外反应池，漫反射反应池，原位红外光谱仪附件， 红外原位反应池，红外附件，是第一个普遍可用的漫反射附件（DRIFTS），用于通过FT-IR和UV-VIS光谱法对固体和粉末进行简单可靠的漫反射分析，以及在温度和/或压力控制的环境中对催化剂和其他粉末进行分析
Harrick HVC-DRP-5 高温反应室，HVC-DRM-5 高温反应池，HVC-VUV-5紫外高温反应室，原位高温附件，HARRICK原位漫反射, 高温反应池，红外光谱仪催化反应, 原位池，高温反应室，原位红外池，HVC-DRP-5 红外漫反射高温反应室，用于从室温到910℃（真空下）对粉末进行漫反射光谱分析，可用于多相催化、气固相互作用、光化学反应等分析应用
美国HARRICK原位池，原位漫反射附件，低温反应室，低温红外附件，CHC-CHA-3红外低温池，低温反应池，CHC-VUV-3紫外漫反射低温反应室，红外漫反射附件，用于在-150°C至600°C对粉末进行漫反射测量，适用于多相催化、气固相互作用、光化学反应
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HARRICK DRK-4-XXX 红外原位池，HARRICK PRAYING MANTIS 原位红外漫反射附件，原位池，原位装置，原位红外反应池，漫反射反应池，原位红外光谱仪附件， 红外原位反应池，红外附件
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HARRICK CHC-CHA-3红外低温池，低温反应池，低温反应室, CHC-VUV-3紫外漫反射低温反应室，红外漫反射附件，用于在-150°C至600°C对粉末进行漫反射测量，适用于多相催化、气固相互作用、光化学反应
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反应室 美国Harrick Praying Mantis反应室 HVC高温反应室 CHC-CHA低温反应室 HVC-MRA-5拉曼高温反应室 反应室 美国Harrick Praying Mantis反应室 HVC高温反应室 CHC-CHA低温反应室 HVC-MRA-5拉曼高温反应室
漫反射附件 Harrick Praying Mantis 红外漫反射附件 FT-IR 附件 红外附件 原位漫反射附件 原位漫反射红外 漫反射原位池 红外原位池 紫外原位池 红外光谱附件 漫反射附件 Harrick Praying Mantis 红外漫反射附件 FT-IR 附件 红外附件 原位漫反射附件 原位漫反射红外 漫反射原位池 红外原位池 紫外原位池 红外光谱附件
