漫反射光谱法是检测粗糙材料表面变化的一种非常灵敏的方法。它对具有高比表面积的粉末特别有效。这使得漫反射对于多相催化、气固相互作用、光化学反应和氧化机制的研究非常宝贵。Harrick低温反应室非常适合在仔细变化的温度和压力下进行此类研究。这些低温反应室允许在广泛的控制温度和压力下进行漫反射测量，并与用于FT-IR和UV-Vis漫反射光谱的漫反射配件一起使用。
设计用于高真空（133μPa或10-6托）至133 kPa（1 ktorr）和-150°C至600°C（真空条件下）的研究。
提供三个入口/出口，用于排空反应池和引入气体。
由耐化学腐蚀的316不锈钢制成。
包括
反应室
低压加热筒。
K型热电偶。
样品包装工具和溢出托盘。
带有两个KBr窗口和一个玻璃观察窗口的圆顶（FTIR配置）
带有两个SiO2窗口和一个玻璃观察窗口的圆顶（UV-Vis-NIR配置）
搭配附件：
（1）漫反射装置 DRP-XXX
