Harrick 高温反应室对于具有高比表面积的粉末特别有效。这使得漫反射成为研究多相催化、气固相互作用、光化学反应和氧化机制的一个有价值的工具。这种高温反应室非常适合在仔细控制的温度和压力下进行此类研究。Harrick 高温反应室应用允许在受控压力和大范围温度下进行漫反射（漂移）光谱测量。它与Praying Mantis漫反射装置 一起作为FTIR和UV-VIS漫反射光谱附件。
设计用于从高真空（133μPa或10-6托）到133 kPa（1千托）的KBr窗片操作，或1.5 MPa（11.3千托）的ZnSe窗片操作。
达到高达910°C的温度（真空条件下）。
易于适应高达3.44MPa（25.8ktorr）的操作，带有可选的高压圆顶
提供三个入口/出口，用于排空反应室和引入气体。
由耐化学腐蚀的316不锈钢制成。
可选的Silcotek/Restek惰性涂层具有更高的惰性和耐腐蚀性。
可选冷却筒，可通过冷却器或再循环器进行适度冷却或加热。
提供两个、三个或四个电极电化学适配器配置。
可用于显微光谱仪应用的替代窗口组件，包括Raman。
包括
反应室。
低压加热筒。
K型热电偶。
样品包装工具和溢出托盘。
带有两个KBr或ZnSe窗口和一个玻璃观察窗口（FTIR配置）的穹顶。
具有两个SiO2窗口和一个玻璃观察窗口（UV-Vis-NIR配置）的穹顶。
搭配附件：
（1）漫反射装置 DRP-XXX
