多个源可共用一个腔体
电子束流蒸发
电子溅射
电阻沉积
具有高度的均匀性和理想的发射流程
电脑控制
从大气压降至10-6托不超过15分钟
模块化,可扩展的设计
离子源或者离子辅助
气体引入系统
样品加热、冷却和旋转
可屏蔽
沉积速度控制
多个源可共用一个腔体
电子束流蒸发
电子溅射
电阻沉积
具有高度的均匀性和理想的发射流程
电脑控制
从大气压降至10-6托不超过15分钟
模块化,可扩展的设计
离子源或者离子辅助
气体引入系统
样品加热、冷却和旋转
可屏蔽
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Thermionics 高真空泵 机械臂 机械引线 电子枪 真空镀膜系统