多个源可共用一个腔体

电子束流蒸发

电子溅射

电阻沉积

具有高度的均匀性和理想的发射流程

电脑控制

从大气压降至10-6托不超过15分钟

模块化，可扩展的设计

离子源或者离子辅助

气体引入系统

样品加热、冷却和旋转

可屏蔽

沉积速度控制