Quantum Northwest qX3帕尔贴温控支架是一种温度控制的样品池支架，有三个光学端口，主要用于荧光光谱分析。qX3帕尔贴温控支架是最便宜的型号，可完全由客户来安装和改装完。使用qX3帕尔贴温控支架来设置和保持精确的样品温度，并以稳定的可重复速率搅拌，同时在受控气体环境中清洗反应杯。尽管依赖于快速、精确的帕尔贴技术，但在0°C到110°C的正常运行不需要循环水。可选的低温选件，包括带窗护套和液体冷却能力，可将qX3帕尔贴温控支架从0°C降到-35°C。购买扩展温度选项，可将操作扩展至110°C至+150°C。对于额外的控制和温度监控，请使用Quantum Northwest的计算机控制软件T-App（可选件）。
qX3帕尔贴温控支架产品特点；
三个光学端口
帕尔贴控制可得到快速精确地控制温度变化
精密步进电机驱动磁力搅拌
提高温度稳定性的盖子
用于安装窗口或过滤器的螺纹插入件
光学狭缝夹控制照明体积
可在极端温度下使用带窗护套
低温作业用干气吹扫
样本温度探头输入
NIST可追踪温度校准
qX3帕尔贴温控支架技术参数：
控制的比色皿数量：1
典型用途：荧光
标准反应杯尺寸（外部）：12.5 mm x 12.5 mm
每个反应杯的光学端口：3
光学端口尺寸：12 mm高x 10 mm宽
反应杯z-高度：15 mm
带窗护套可用：是
出厂设定温度范围：-40°C至+110°C
温度范围可实现：-5°C至+110°C
低温范围选项：-35°C至+110°C
扩展温度范围选项：-35°C至+150°C
温度精度：±0.02°C
可接受的热敏电阻探头：探头/QNW3
磁力搅拌电动机类型：步进式
磁搅拌速度范围：1-2500转/分
默认搅拌转速：1200转/分
搅拌速度最佳性能：60-1800转/分
qX3帕尔贴温控支架基本配置：
qX3帕尔贴温控支架
TC 1B–温度控制器
NIST可追踪校准和性能数据
磁力搅拌棒、干气管道和电缆
qX3帕尔贴温控支架 可选配件
T-App
/L-qX3 – Low temperature option for qX3 低温选件
/E-qX3 – High temperature option for qX3 高温选件
SLITS/qX3
Probe/10k-qX 探头
