qX2是一个温度控制的比色皿支架,带有两个光学端口,用于吸收光谱或可使用这两个端口执行的实验。这是完全由用户安装和修改的最便宜的版本。使用qX2设置并保持精确的样品温度,并以稳定的可重复速率搅拌,同时将反应杯浸泡在受控的气体环境中。尽管依赖于快速、精确的帕耳帖技术,但从0°C到110°C的正常运行不需要循环水。
购买低温选项,包括带窗护套和液体冷却功能,从0°C到-35°C操作qX2。
购买扩展温度选项,将操作扩展到110°C到150°C以上。使用TC 1B温度控制器控制qX2。
对于额外的控制和温度监控,请使用Quantum Northwest的计算机控制软件T-App。
qX2 温控支架产品特点:
快速、精确的帕耳帖温度控制
精密步进电机驱动磁力搅拌
低温工作用干气吹扫
提高温度稳定性的盖子
安装窗口或过滤器的螺纹插入件
控制照明体积的光学狭缝夹持器
用于移除反应杯的反应杯升降器
样本温度探头输入
NIST可追踪温度校准
qX2 温控样品池支架技术规格:
控制比色皿数:1
应用:吸收光谱
标准比色皿尺寸(外部)12.5 mm x 12.5 mm
每个比色皿的光学端口:2个
光学端口尺寸:12 mm高x 10 mm宽
比色皿z高度15 mm
提供有窗护套:有
工厂设定温度范围:-40°C至+110°C
容易达到的温度范围:-5°C至+110°C
低温选项范围:-35°C至+110°C
扩展温度选项范围:-35°C至+150°C
温度精度±0.02°C
接受热敏电阻探头:探头/QNW3
磁力搅拌电机类型:步进电机
磁搅拌转速范围:1-2500rpm
默认搅拌速度:1200 rpm
qX2 比色皿温控支架基本包装:
qX2–温控比色皿支架
TC 1B–温度控制器
NIST可追踪校准和性能数据
磁力搅拌棒、干气管道和电缆
搅拌速度最佳性能:60-1800 rpm
qX2 比色皿温控支架可选配件:
T-App
/E-qX2 – High temperature option for qX2
/L-qX2 – Low temperature option for qX2
SLITS/qX2
Probe/10k-qX
适用光谱仪
qX2/8454 | 8452, 8453 and 8454 |
qX2/8453 | Olis Upcycled HP 8453 |
qX2/8452 | Olis Computerized HP 8452 |
qX2/Cary60 | Cary 60 (or Cary 50) UV/Vis |
qX2/Cary300 | Cary 100 and Cary 300 |
qX2/Cary5000 | Cary 4000, 5000, 6000i and 7000 UV/Vis/NIR |
qX2/Dynamica | Dynamica Halo DB-30 UV/Visible |
qX2/Hitachi | Hitachi |
qX2/PE265 | Perkin Elmer LAMBDA 265 UV/Vis |
qX2/PE365 | Perkin Elmer LAMBDA 365 UV/Vis |
qX2/PE465 | Perkin Elmer LAMBDA 465 UV/Vis |
qX2/PE1050 | Perkin Elmer LAMBDA 650, 750, 850, 950 and 1050 UV/Vis/NIR |
qX2/Shimadzu | ShimadzuUV-VIS |
qX2/UV1280 | Shimadzu UV-1280 UV-Vis |
qX2/EVO | Evolution 300 and 600 |
qX2/DS5 | Edinburgh Instruments DS5 Dual Beam UV-Vis |
qX2/std | 空气冷却,帕尔贴控制反应杯持用于标准的基础上和支柱 |
qX2 | 用户自定义 |