qX2是一个温度控制的比色皿控温支架，带有两个光学端口，用于吸收光谱或可使用这两个端口执行的实验。这是完全由用户安装和修改的最便宜的版本。使用qX2 比色皿控温支架设置并保持精确的样品温度，并以稳定的可重复速率搅拌，同时将反应杯浸泡在受控的气体环境中。尽管依赖于快速、精确的帕耳帖技术，但从0°C到110°C的正常运行不需要循环水。
购买低温选项，包括带窗护套和液体冷却功能，从0°C到-35°C操作qX2 比色皿控温支架。
购买扩展温度选项，将操作扩展到110°C到150°C以上。使用TC 1B温度控制器控制qX2 比色皿控温支架。
对于额外的控制和温度监控，请使用Quantum Northwest的计算机控制软件T-App。
qX2 比色皿控温支架产品特点：
快速、精确的帕耳帖温度控制
精密步进电机驱动磁力搅拌
低温工作用干气吹扫
提高温度稳定性的盖子
安装窗口或过滤器的螺纹插入件
控制照明体积的光学狭缝夹持器
用于移除反应杯的反应杯升降器
样本温度探头输入
NIST可追踪温度校准
qX2 比色皿控温支架技术规格：
控制比色皿数：1
应用：吸收光谱
标准比色皿尺寸（外部）12.5 mm x 12.5 mm
每个比色皿的光学端口：2个
光学端口尺寸：12 mm高x 10 mm宽
比色皿z高度15 mm
提供有窗护套：有
工厂设定温度范围：-40°C至+110°C
容易达到的温度范围：-5°C至+110°C
低温选项范围：-35°C至+110°C
扩展温度选项范围：-35°C至+150°C
温度精度±0.02°C
接受热敏电阻探头：探头/QNW3
磁力搅拌电机类型：步进电机
磁搅拌转速范围：1-2500rpm
默认搅拌速度：1200 rpm
qX2 比色皿控温支架基本包装：
qX2 比色皿控温支架
TC 1B–温度控制器
NIST可追踪校准和性能数据
磁力搅拌棒、干气管道和电缆
搅拌速度最佳性能：60-1800 rpm
qX2 比色皿控温支架可选配件：
T-App
/E-qX2 – High temperature option for qX2
/L-qX2 – Low temperature option for qX2
SLITS/qX2
Probe/10k-qX
