Quantum Northwest Brr 20/8454 吸收光谱用温控支架,帕尔贴控制的比色皿支架,用于8452、8453和8454二极管阵列系统,具有扩展的低温响应

Brr 20/8454是一种温度控制比色皿支架,适用于+110°C至-55°C的温度范围。它设计用于8452、8453和8454二极管阵列系统的开放式样品室。设置并保持精确的样品温度,并以稳定的重复速率搅拌,同时将比色皿浸泡在受控的气体环境中。本产品配有带窗护套,以提高低温性能,并最大限度地减少可能在窗片上形成的冷凝。循环水用于排出帕耳帖热交换器中的热量。使用安捷伦ChemStation软件或者使用配套的TC 1B温度控制器控制操作Brr 20/8454。对于额外的控制和温度监控,请购买QNW的计算机控制软件T-App。

产品特点
快速、精确的帕耳帖温度控制-55°C至+110°C
精密步进电机驱动的磁力搅拌
低温作业用干气吹扫
隔热盖,提高温度稳定性
用于安装窗口或过滤器的螺纹插件
用于取出比色皿的比色皿升降器
样本温度的探针输入
Cary 8454的安装底座和立柱
NIST可追踪温度校准
化学站操作驱动器

Brr 20/8454技术参数
比色皿数量 1
应用 吸收
标准比色皿尺寸(外部) 12.5 mm x 12.5 mm
比色皿的光学端口 2
光学端口尺寸 12 mm high x 10 mm wide
比色皿z高度 15mm
出厂设置温度范围 -55°C至+110°C
容易达到的温度范围 -55°C至+110°C
温度精度 ±0.02 °C

 


Related posts