PREVAC XPS UPS Photoelectron Spectrometer XPS UPS光电子能谱仪
描述
UHV ESCA系统专用于在非常好的控制条件下通过不同的方法研究在宽温度和压力范围内的固态表面的化学和物理性质。
规格
该系统设计用于在良好控制的条件下通过XPS / UPS方法研究和修改固体表面。分析室中的基本压力为<5 * 10 -11 mbar。
- 多功能分析室集成了不同的测量方法，例如标准的ESCA，AES，ISS和UPS。高精度的5轴机械手可确保样品的良好定位，并配备了适用于LN 2的低温恒温器和用于在很宽的温度范围内冷却和加热样品的加热器。该腔室由mu金属制成，配备了半球形分析仪和分析设备，例如离子源，电子源，溢流枪，单色X射线源，无单色X射线源，紫外线源，并已为许多其他设备准备。该设备可以根据客户需求进行修改。
- 两级制备室，配备LEED，TDS，离子源，电子束蒸发器，机械表面清洁剂和许多端口，可用于将来的制备或蒸发设备。样品上的温度取决于样品架，温度范围从-180°C到2000°C。
- 分配室，用于将样品架转移到在其圆周上连接的特定室。
- 切割刀腔，用于切割安装在合适样品架中的样品。
- 高压室可加热到650°C，并在受控的气体气氛中将样品冷却至2 MPa的压力
- 带有内部烘烤系统的装载锁定室，用于粉尘样品的抽吸。
- 样品存放室可容纳6个样品架。
