PREVAC MOKE system MOKE系统 超薄磁性薄膜和多层薄膜的原位实时磁光Kerr效应研究
UHV系统用于电子束蒸发沉积薄膜的超薄磁性薄膜和多层薄膜的原位实时磁光Kerr效应研究。
- 150°C烘烤后的基本压力范围为10 -10 mbar
- 垂直于样品排列的磁极
- 磁场beetwen磁极> 0.17特斯拉
- 用于标本样品架的4轴UHV样品操纵器
- 样品加热到800°C并用LN 2冷却
- MOKE腔室的光学系统（调制器，偏振器，光电探测器，激光器）
- 带设备的整个腔室安装在定位台上
- 真空手提箱便于样品运输
