独立的UHV装置，用于测量超薄膜的吸附/解吸，能够在很宽的温度范围内进行高精度的温度控制。

特征

基础压力1×10^-9毫巴(millibar压力单位)
带有快速PTS样品架装载系统的TPD/TDS室
专门设计的锥形取样端件
宽温度范围(-170°C至1200°C)内的高精度温度控制
TDS的计算机控制数据采集和处理软件
用于两个PTS样品支架的加载锁定室
从装载锁到TPD室的可靠和快速的线性传送系统