Prevac沉积系统、磁控溅射系统、032PRIMS基本MS系统
简单和全功能的溅射沉积装置，用于可复制的薄膜层的应用。 即插即用紧凑的设计.
该处理室 包含3个磁控溅射源端口(用于金属和无机物)，安装在溅射配置中。最多同时使用两个源(共沉积)基底台用于直径不超过2英寸的样品，带有加热和旋转选项。
特征
- 插头和工作结构
- 易于使用的移动装置，用于快速测试和溅射涂层
- 处理室带有l大型真空门为了容易更换目标或衬底
- 装有MS2 100 ISO-K磁控管源和新奇M600DC-PS电源
- 基底台用于最多2个”直径样品
- 处理室直径:355毫米
- 3个端口对于2英寸磁控管源
- 1个视窗–带百叶窗的观察窗
- 保护罩防止交叉污染
- 基底压力范围10-7 毫巴(millibar压力单位)
- 快速泵送系统随着真空计
- 氩气自动加药通过质量流量控制
- A车轮上的刚性主车架便于系统的放置
- 手动节流阀
这快速泵送系统(带手动节流阀)与小体积的处理室相结合，使您能够在短时间内达到基础压力。
这加工室配有高压标准的连接法兰，用于连接当前和未来的设备，包括:
- 多达3个磁控管源 2”,
- 衬底操纵器，
- 泵送系统m，
- 防止交叉污染的保护罩，
- 石英平衡，
- 视口–带百叶窗的观察窗，
- 真空计，
- py罗梅特。
| Applications | Examples |
| Single and multilayer conductor films (for microelectronics and semiconductor devices) | Al, Mo, Mo/Au, Ta, Ta/Au |
| Barrier layers for semiconductor metallizations | TiN, W-Ti |
| Magnetics films | Fe, Co, Ni, Fe-Al-Si, Co-Nb-Zr, Co-Cr, Fe-Ni-Cr, Fe-Si, Co-Ni-Cr, Co-Ni-Si |
| Optical coatings – metallic (reflective) | Cr, Al, Ag |
| Optical coatings – dielectric | MgO, TiO2 , ZrO2 |
| Photomasks | Cr, Mo, W |
| Transparent gas/vapor permeation barriers | Al2O3 |
| Transparent electrical conductors | InO2, SnO2,In-Sn-O (ITO) |
