沉积处理室设计用于各种应用，以涂覆薄膜、开发新材料或创造技术。
它们通常具有许多UHV端口(各种标准尺寸),用于连接各种类型的沉积和测量仪器。它们通常设计用于1×10之间的基础压力-6毫巴和1×10-11毫巴。根据需要，由高导磁合金(内部硼< 0.5μT)或不锈钢制成。我们的标准多功能分析室提供了足够的端口和设施来满足大多数当前和未来的要求，但我们也很乐意根据您的个人规格进行制造。
沉积室通常配备有:
不同类型的沉积源和仪器，包括电子束蒸发器、泻流池、磁控管源、热蒸发源、石英振荡器等；
精密机械手，
泵系统(TMP、带低温冷却的TSP、离子)，
视窗，
压力计。
处理室可以配备半/全LN2
冷却护罩(低温护罩)、防止污染的附加护罩(可更换衬管)和防止交叉污染的源隔离(低温面板)。
使用专门设计的起重小车，可以更换处理室的底部集群法兰。
一个多功能推车可用于更换底部法兰、低温板和衬垫(便于清洁)。由于可以用源代替底部法兰，一个沉积室可以适用于不同的应用。
任何真空室的材料选择和基本设计都因其所需的具体应用而异。例如，对极限室底压力的要求可以在甚至优于10的范围内变化-10 毫巴。
物理尺寸可以是直径从几毫米到几米的任何东西。一个简单的实验可以规定一个简单的配置，如四路交叉。另一方面，复杂、通用的分析室可能需要50个或更多的端口，这些端口朝向许多不同的内部焦点并处于许多不同的高度。
我们根据您的具体要求制造定制的真空室。我们可以处理您的图纸，或者根据您的指示创建完整的3D设计图。我们的团队训练有素的工程人员使用最新的CAD技术室和系统设计。
我们在最新的机械加工和精加工技术上投入了大量资金，可以建造大型或小型腔室，这些腔室具有任意数量的位于不同角度的端口，并且适合任何操作基础压力要求。
我们的机械车间员工在加工、焊接和连接所有类型的高压和UHV兼容材料方面技术高超，这些材料包括:不锈钢、OFHC铜、青铜、macor、陶瓷、特氟隆、钛、铝、钼、钽、mu-metal、vespel和inconel。我们还用钽、钼和不锈钢制造隔热罩和反射器。
用于标准样品制备技术、薄膜生长、溅射、退火和原位表征的高级制备技术。
它们通常具有许多UHV端口(各种标准尺寸),用于连接各种类型的表面处理技术。它们通常设计用于1×10之间的基础压力-10毫巴和1×10-11毫巴。我们的标准多功能制备室提供了足够的端口和设施，可满足大多数当前和未来的要求，但我们也很乐意根据您的个人规格进行制造。
准备室通常配备有:
精密机械手，
泵系统和压力计，
电子束蒸发器和喷射室，
石英振荡器，
不同类型的分析仪，
用于表面清洁的离子源，
视窗。
