PREVAC标准PLD系统包括一个沉积处理室和一个负载锁定室，可轻松快速地装载衬底。
脉冲激光沉积(PLD)独立系统适合f的生长铁磁薄膜, 陶瓷氧化物、高温超导材料、金属多层膜等等。
特征
- 满足PLD生长工艺领域大多数研究需求的通用解决方案
- 适合f的生长铁磁薄膜, 陶瓷氧化物、高温超导材料、金属多层和其他
- 垂直的PLD工艺几何
- 激态原子或者钇铝石榴石(yttrium aluminum garnet)具有激光束驱动系统的激光器
- 1-4轴，电动或手动，衬底操纵器接收站能够达到高达1400°C的高温(具有由固体SiC制成的稳定、长寿命的加热元件)
- 不同的基板支架尺寸:从10×10毫米到2英寸
- 六位置目标操纵器利用原位目标交换系统
- 目标持有者尺寸:1或2英寸
- 全自动或手动靶和衬底转移系统
- 离子源带有用于清洗、蚀刻或活化衬底表面的电源
- 基底压力从1×10-8至5×10-11毫巴， 取决于泵系统
- 加工室490毫米，带附加端口
- 泵送系统(基于前级泵、TMP、离子泵和TSP)
- 带设备的真空计
- 石英天平用于沉积速率测量和厚度监控，用Z操纵器测量焦点处的速率
- 负载锁定室对于样品架和目标
- 可靠且快速线性传输系统从装载锁到处理室
- 视窗–带快门的观察窗
- 烘烤前带有集成排放管线的水冷却系统
- 烘烤系统
- 该系统的可调刚性主框架
- 带电子设备的19英寸机柜
描述
这加工室包含6个目标和一些用于在衬底上沉积的材料。该载物台用于直径最大为2英寸的样品，具有冷却/加热和旋转选项。自动或手动PLD系统可以轻松地将目标和衬底从装载锁转移到PLD操作站。
工艺室配有UHV标准的连接法兰，用于连接当前和未来的设备，包括:
- 激光
- 具有温度范围的衬底操纵器，
- 目标操纵器，
- 具有用于清洗、蚀刻或活化衬底表面的电源的离子源，
- 泵送系统(基于备用泵、TMP、离子泵和TSP泵)，
- 带设备的真空计，
- 线性传送系统的入口，例如来自装载锁、径向分配室、传送隧道或运输箱的入口，
- 带Z机械手的石英天平，
- RHEED/torrheed与设备，
- 用于相邻层或掩模的电动或手动快门(跟随衬底),
- 额外的气体定量给料例如对于反应沉积过程，
- 视窗–带百叶窗的观察窗，
- 残余气体分析仪，
- 光束通量监视器，
- 诊断设备的加热视窗。
最终设计和功能取决于系统配置。
如果需要的话标准设计允许通过径向分布传输解决方案或传输隧道与任何其他研究平台结合和集成。
A 抽水系统结合处理室的标准容积，允许达到1×10-6范围内的基础压力-8 – 5×10-11毫巴，取决于泵的配置。泵送系统是不同类型泵的组合，例如预真空泵、离子泵、低温泵、涡轮泵或钛升华泵，根据具体应用需求单独选择以实现最佳泵送性能。
合成过程控制软件允许各种类型的来源和制造商的集成和完美合作，并实现简单的配方编写、自动化生长控制和广泛的数据记录。允许集成基于Tango开源设备的新的附加组件。
该系统配备先进，易于使用电力供应和电子设备控制和支持来源和整个包括研究设备。