Prevac分析室
专为需要研究固态表面、薄膜和纳米材料的化学和物理性质的应用而设计。
描述
它们通常具有许多UHV端口(各种标准尺寸),用于连接各种类型的分析和光谱仪器。它们通常设计用于1×10之间的基础压力-10毫巴和1×10-11毫巴。根据需要，由高导金属(B < 0.5μT内的磁场)或不锈钢制成。我们的标准多功能分析室提供了足够的端口和设施来满足大多数当前和未来的要求，但我们也很乐意根据您的个人规格进行制造。
分析室通常配备有:
精密机械手，
泵送系统(涡轮、带低温挡板的TSP和离子泵)，
视窗，
压力计，
不同类型的分析仪，
离子、电子、紫外线、X射线源等。
Prevac流经高压反应器
设计用于在UHV条件下，在反应室中研究高压下(反应杯之间)气体和固体/粉末样品之间的反应。
样品可能会受到静态或流动气体的影响，加热温度高达750°C，并有可能冷却至-100°C(可选)。
描述
高压反应器的真空室内部是一个杯系统，它是一个封闭的空间，样品在其中与气体接触。打开和关闭杯子是通过手动旋转反应体积螺钉来完成的。根据应用，样品安装台可由不锈钢、钛、镀金表面或其他材料/合金制成。样品架的温度由HEAT3-PS电源调节。
静态或流动模式(气体温度高达300°C)下的活性气体实验可在1 bar至20 bar的压力下进行(取决于气体定量给料系统的类型)。
特殊设计允许关闭反应杯内的整个PTS样品架，因此只有一个密封面。这种解决方案需要更大体积的气体。
Prevac静态高压反应器
设计用于促进各种反应气体的高压(高达1巴)实验。
静态高压反应器配有一系列不同标准尺寸的UHV端口。它们通常设计用于低于1×10的基础压力-8毫巴。具有冷却和加热选项的反应器可以在高达650°c的负温下工作。加热和冷却设施由HEAT3-PS温度控制器控制，温度取决于各个样品架的规格。可转移的样品架通过转移法兰引入，并储存在样品架接收站。
