Polygon Physics 多功能表面处理系统

多功能表面处理系统 单离子源，多种表面处理方式。

Polygon Physics 公司提供一套用于研发目的的解决方案：单个系统即可在同一样品上完成一系列表面处理步骤，无需破坏真空环境。

一个紧凑的研发系统中集成多个表面处理步骤

离子束溅射沉积 可进行多层沉积（两种不同的溅射靶材）

溅射清洗，例如用于提高薄膜的附着力

纳米结构化以改变表面特性（例如吸收性、装饰性、粘附性）

能量高达 30 千伏的低能离子注入

• 离子源在束能量、离子电流和束形状方面具有较大的操作窗口
• 溅射靶材和薄膜厚度监测器安装在可旋转和可伸缩的轴上
• 样品安装在长度可调节的旋转和可伸缩臂上，以适应不同的工艺模式

一个系统，多种运行模式

样品清洁与纳米结构化模式

样品旋转进入光路。溅射靶材和薄膜厚度监测仪缩回。

束流校准模式：

将样品旋转出束流路径。收回靶材和膜厚监测仪。让束流毫无阻碍地进入法拉第杯，以测量束流电流并计算样品上的平均电流密度。

薄膜沉积模式：

将靶材置于光束路径中。样品处于其沉积位置。薄膜厚度监测仪已缩回。

沉积速率校准模式：

将靶材置于束流路径中。将样品旋转至沉积位置。将薄膜厚度监测仪（FTM）置于样品与靶材之间。