Nonsequitur 铯离子枪 碱性离子枪设计特点
- 用户可更换Frit离子源以产生各种离子
- 光斑可调 75um to >1mm for spatially defined sputtering
- 连续可变束流能量,最高 5keV
- 使用光束弯曲光学元件进行中性种抑制
- BTOF SIMS的光束消隐能力
- 集成束流监控能力
- 可选光束束电极
- 采用适合超高真空和耐蚀刻的材料
- 用于减小光斑尺寸的透镜偏转
- 差速泵,以尽量减少主腔室气体负载
Nonsequitur 铯离子枪 碱性离子枪设计特点
Nonsequitur 离子源 质子源