电子枪系统

Kimball Physics 电子枪,其设计用于各种超高真空 (UHV) 表面物理、空间物理和处理应用。喷枪可聚焦小光斑,用于 X 射线生产、焊接和 RHEED 等应用;或用于泛光束,用于电荷中和、电子束洗涤、空间模拟和辐射损伤研究。

操作范围:

  • ● 能量范围:1 eV 至 100 keV
  • ● 射束电流范围:1 nA 至 20 mA
  • ● 光斑尺寸范围:15 μm(聚焦柱)至 500+ mm(泛光光束)

优势:

  • ● 客户可更换的点火装置
  • ● 完全操作期间的机械对准
  • ● 可存储的控制设置
  • ● 电脑遥控/计量

性能:

  • ● 光束电流稳定性:反馈稳定的发射电流控制;优于每小时 ± 0.1%
  • ● 能量稳定性:每小时 ± 0.01%,满输出时每 8 小时 ± 0.02%,以最大限度地减少色差

应用:

  • ● 快速脉冲/光束消隐
  • ● 偏转/光栅
  • ● 枪式法拉第杯

低能量电子枪(最大 5keV)

中能量电子枪(最大 30keV)

高能量电子枪(最大 100keV)