idonus UV-EXP 系列 UV-LED 光刻曝光系统
产品概述
UV-EXP 系列是 idonus 推出的一款创新型紫外照明系统，基于高功率 LED 与优质匀光光学元件设计。该产品线适用于光刻胶曝光（UV-LED 光刻与固化），可广泛应用于 MEMS、微流控、光子学、半导体及光伏等领域中各类基材和光刻胶的加工。标准产品线可处理最大 300 mm（11.8 英寸）的掩模版与晶圆。
为何选择 LED 技术？
过去，汞弧灯一直是唯一能够提供高强度紫外光用于光刻曝光的光源。随着 LED 技术的进步，UV-LED 已成为传统汞灯的理想替代方案，兼具环保与安全优势。
与传统汞灯相比，UV-LED 在技术层面具有多项显著优势：
超长寿命：UV-LED 可实现稳定的发光输出，无需每日校准和维护
能效更高：发热量更低，大幅简化系统冷却设计
即时开关：无需机械快门，仅在曝光期间点亮
窄带光谱：避免基片不必要的加热，工艺重复性更高
低功耗：显著降低运行成本
零维护费用：无需更换消耗品
此外，365 nm、405 nm 和 435 nm（峰值波长）的 LED 可组合使用，模拟汞弧灯的 UV-A 光谱（对应汞元素的 i 线、h 线和 g 线特征峰），如图所示。
idonus UV-LED 曝光系统
idonus 推出了完整的 UV-LED 曝光产品线。我们的系统集成了市面上最高效的 UV-LED 与高品质微透镜阵列，完全由内部完成组装与控制。其设计采用全远心光学系统，在整个曝光区域内提供可重复且均匀的照明条件——即高度均匀、稳定的光强和极小的发散角。这一先进的光学系统确保整个基片获得完美均匀的曝光，使光刻胶侧壁垂直，实现微米级关键尺寸的精确微结构加工。
图 ：光学系统示意图（简化）
通过使用微透镜阵列匀光器，实现了照明的高度均匀性。
UV-EXP 系列性能参数
我们的 UV-LED 曝光系统提供多种标准配置，并可根据需求选择多种变量和选项（例如单波长或混合波长）。作为特种设备制造商，idonus 还可根据客户规格开发完全定制的设备（例如不同的曝光区域、定制设备外壳）。主要产品特性详见“标准 UV-LED 曝光系统”表格。
性能指标
均匀性：在校准过程中进行的典型测量（如图 B 所示）表明，在有效曝光区域内，辐照度不均匀度（(最大值-最小值)/(最大值+最小值)）低于 3%。
最大准直角 α：如图 A 所示，最大准直角 α 是另一个我们系统化表征的重要参数。图 C 显示了从某型号测量中提取的典型数据。
α 的评估方法：辐照度作为准直角的函数进行测量，α 对应半高全宽（FWHM）。该阈值通常用于评估有效贡献于光刻胶辐照的光能量。基于我们曝光系统的性能，约 95% 的能量集中在准直角 α 范围内。
