Harrick CHC-CHA-3低温反应室, CHC-VUV-3 漫反射低温反应室,用于在-150°C至600°C对粉末进行漫反射测量,适用于多相催化、气固相互作用、光化学反应

漫反射光谱法是检测粗糙材料表面变化的一种非常灵敏的方法。它对具有高比表面积的粉末特别有效。这使得漫反射对于多相催化气固相互作用光化学反应和氧化机制的研究非常宝贵。Harrick低温反应室非常适合在仔细变化的温度和压力下进行此类研究。这些低温反应室允许在广泛的控制温度和压力下进行漫反射测量,并与用于FT-IRUV-Vis漫反射光谱的漫反射配件一起使用。

Praying Mantis™ Low Temperature Reaction Chambers

设计用于高真空(133μPa或10-6托)至133 kPa(1 ktorr)和-150°C至600°C(真空条件下)的研究。
提供三个入口/出口,用于排空反应池和引入气体。
由耐化学腐蚀的316不锈钢制成。

包括
反应室
低压加热筒。
K型热电偶。
样品包装工具和溢出托盘。
带有两个KBr窗口和一个玻璃观察窗口的圆顶(FTIR配置)
带有两个SiO2窗口和一个玻璃观察窗口的圆顶(UV-Vis-NIR配置)

搭配附件:

(1)漫反射装置 DRP-XXX

(2)温控仪ATK-024-4


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