Angstrom Sciences ONYX-Φlux Control ONYX-Φlux 控制 磁控溅射靶材

Angstrom Sciences ONYX-Φlux Control ONYX-Φlux 控制

Angstrom Sciences 为磁控溅射应用带来的尖端技术而享誉国际。我们现在已经开发出一种方法来控制穿过靶材表面的等离子体。ONYX-Φlux 控制,(通量控制)为平面和圆形磁控管开发,允许用户最大化均匀性或目标利用率。

控制均匀度

磁场在目标表面上特定点的可编程停留时间。提供对电场和磁场交叉点的精确控制,以聚焦腐蚀轮廓并调整均匀性。

通量控制等离子埃科学

 

控制材料利用率

以恒定速率将等离子体扫过目标表面。在厚度高达 1.4 英寸(35 毫米)的平面目标上可以实现高达 65% 的目标利用率,从而实现极长的运行时间。

通量控制侵蚀目标埃科学

用户友好的软件

  • 直观的用户界面
  • 三种用户模式 ​​- 运行、编辑、手动
  • 触摸屏技术
  • 等离子体的输入位置和停留时间

通量控制埃科学


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