Angstrom Sciences HiPIMS – Magnetron Sputtering HiPIMS – 磁控溅射

Angstrom Sciences HiPIMS – Magnetron Sputtering HiPIMS – 磁控溅射

Angstrom Science 为其圆形和线性磁控管产品线开发了解决方案，允许磁场离散变化（通过可互换的磁铁组用于内部安装阴极）或连续变化（通过外部安装阴极上的磁铁组高度调整）。

HIPIMS 磁控管用于在涂层沉积和具有高微结构密度的薄膜沉积之前对基材进行预处理。