WaferPro,熔融石英晶圆,紫外级熔融石英,光学级熔融石英,全光谱熔融石英,“熔融石英”或“熔融硅石”是石英（SiO₂）的非晶态形式。与硼硅酸盐玻璃相比，熔融石英不含任何添加剂，因此以纯净的 SiO₂ 形式存在。与普通玻璃相比，熔融石英在红外和紫外光谱范围内具有更高的透射率。
熔融石英晶圆
“熔融石英”或“熔融硅石”是石英（SiO₂）的非晶态形式。与硼硅酸盐玻璃相比，熔融石英不含任何添加剂，因此以纯净的 SiO₂ 形式存在。与普通玻璃相比，熔融石英在红外和紫外光谱范围内具有更高的透射率。熔融石英是通过熔化和再固化超纯 SiO₂ 制成的。而合成熔融石英则是通过硅含量丰富的化学前驱体（如 SiCl₄）在 H₂ + O₂ 气氛中气化并氧化制成的。在此过程中形成的 SiO₂ 粉尘会在基底上熔合成石英。熔融石英块被切割成晶圆后，最终进行抛光。
熔融石英晶圆的类型
WaferPro 提供由以下基底材料制成的高质量熔融石英玻璃晶圆：
- 紫外级熔融石英 – JGS1
紫外级熔融石英晶圆在紫外光谱范围内具有高透明度。在可见光（VIS）和紫外光（UV）范围内的透射率约为 90%，仅在 220 至 150 nm 之间因反射损失而降至 0%。在红外范围内，通常较高的 OH 浓度（约 1000 ppm）会导致波长 > 1.2 μm 的吸收带。 - 光学级熔融石英 – JGS2
与 JGS1 晶圆相比，价格显著较低的 JGS2 晶圆的透射范围向长波长方向偏移。在这种情况下，紫外吸收开始于约 270 nm 波长以下，而在可见光和红外范围内，由于较低的 OH 浓度（通常 < 300 ppm），透射率在约 2 μm 波长内保持在约 90%。 - 全光谱熔融石英 – JGS3
这些晶圆相对更昂贵。它们具有极低的 OH 含量（通常 < 10 ppm），在约 200 nm – 3 μm 的宽光谱范围内表现出 > 80% 的高透明度，在 250 – 2.5 μm 波长范围内的透射率约为 90%。
熔融石英晶圆的主要应用
光掩模
熔融石英晶圆用于制造光掩模，具有高光学透明度，适用于半导体制造中的光刻工艺。
光学
熔融石英用于制造高精度光学元件，如透镜、棱镜、滤光片、非球面镜和衍射元件。
光纤
熔融石英是制造光纤的主要材料。
MEMS与传感器
熔融石英晶圆作为基底材料用于制造MEMS器件（如加速度计）、光学传感器和生物传感器。
光子学
特种熔融石英晶圆具有严格规格，可用于制造光子器件，如波导和集成光学电路。
半导体承载/仿真晶圆
超光滑的熔融石英晶圆可作为承载晶圆，支持器件晶圆在背面研磨过程中使用，也可作为工艺设备中的仿真晶圆。
高可靠性电子产品
熔融石英具有优异的绝缘性和出色的热/机械稳定性，适用于航空航天和国防系统。
医疗器械
微型光学和微流控系统利用熔融石英，可用于芯片实验室医疗诊断设备。
激光技术
熔融石英具有高激光损伤阈值，适用于超快激光系统。
我们的加工能力
| 尺寸 | 英寸 | 2″ | 3″ | 4″ | 6″ | 8″ | 10″ | 12″ |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 直径 | mm | 50.8 | 76.2 | 100 | 150 | 200 | 250 | 300 |
| 公差 (±) | mm | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 |
| 厚度 | µm | ≥100 | ≥100 | ≥100 | ≥300 | ≥400 | ≥500 | ≥500 |
| 基准平边 | mm | 32.5 | 32.5 | 32.5 | 57.5 | 半切口 | 半切口 | 半切口 |
| LTV (5mm×5mm) | µm | < 0.5 | < 0.5 | < 0.5 | < 0.5 | < 0.5 | < 0.5 | < 0.5 |
| TTV | µm | < 2 | < 2 | < 2 | < 3 | < 3 | < 5 | < 5 |
| 弯曲度 | µm | ±20 | ±20 | ±20 | ±30 | ±40 | ±40 | ±40 |
| 翘曲度 | µm | ≤30 | ≤30 | ≤30 | ≤40 | ≤50 | ≤50 | ≤50 |
| PLTV (5mm×5mm) <0.4µm | % | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% |
| 边缘圆角 | mm | SEMI 标准 | SEMI 标准 | SEMI 标准 | SEMI 标准 | SEMI 标准 | SEMI 标准 | SEMI 标准 |
| 表面类型 | SSP/DSP | SSP/DSP | SSP/DSP | SSP/DSP | SSP/DSP | SSP/DSP | SSP/DSP | |
| 表面粗糙度 | nm | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 |
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